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部件鍍膜設(shè)備
部件鍍膜設(shè)備實(shí)現(xiàn)高大量生產(chǎn)率的高真空基礎(chǔ)In-line Sputter
型號(hào)： Batch Typ... 所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/5 15:54:36 對(duì)比

鍍膜部件鍍膜設(shè)備 Batch Type
12英寸通用物理氣相沉積系統(tǒng)
Polaris系列 12英寸通用物理氣相沉積系統(tǒng)，磁控濺射源和腔室結(jié)構(gòu)的設(shè)計(jì)有效提高靶材利用率。
型號(hào)： Polaris系列所在地：北京市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/5 15:54:13 對(duì)比

Polaris系列 12英寸通用物理氣相沉積系統(tǒng)北方華創(chuàng)
高真空熱阻蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)
高真空熱阻蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)主要由有機(jī)/金屬源蒸發(fā)沉積室、真空排氣系統(tǒng)；真空測(cè)量系統(tǒng)；蒸發(fā)源；樣品加熱控溫；電控系統(tǒng)；配氣系統(tǒng)等部分組成。該系統(tǒng)可與手套箱對(duì)接。熱...
型號(hào)： DZ450 所在地：沈陽(yáng)市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/5 15:50:43 對(duì)比

高真空熱阻蒸發(fā)薄膜沉積
高密度等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)
Orion Proxima 高密度等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)。
型號(hào)： Orion Pro... 所在地：北京市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/5 15:43:59 對(duì)比

Orion Proxima 高密度等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)北方華創(chuàng)
充氮型程控烤膠機(jī)
充氮型程控烤膠機(jī) 產(chǎn)品性能：1.充氮烤膠機(jī)是在普通基礎(chǔ)上增加密封蓋和氮?dú)庾⑷肟?，保證氮?dú)饩鶆蛲ㄈ肟灸z機(jī)內(nèi)部形成惰性氣體保護(hù)氣氛。2.充氮烤膠機(jī)最高溫度可達(dá)到30...
型號(hào)： AC200-PE 所在地：南京市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/5 15:41:35 對(duì)比

半導(dǎo)體光刻及涂膠顯影勻膠機(jī)烤膠機(jī)充氮型程控烤膠機(jī)
部件鍍膜設(shè)備
部件鍍膜設(shè)備是在真空狀態(tài)下在產(chǎn)品外部涂層非導(dǎo)電體的Coating設(shè)備，由真空內(nèi)產(chǎn)品做著自傳，公轉(zhuǎn),并能保持一定的膜厚度.
型號(hào)： KaRon 設(shè)備所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/5 15:41:20 對(duì)比

鍍膜
卷對(duì)卷薄膜濺射系統(tǒng)
卷對(duì)卷薄膜濺射系統(tǒng)是在真空狀態(tài)下用于micro phone的厚度為4u Film的Gold(AU)做Sputtering的設(shè)備.
型號(hào)： Roll to R... 所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/5 15:35:17 對(duì)比

鍍膜濺射卷對(duì)卷薄膜濺射系統(tǒng)
金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積
Propel HVM GaN MOCVD 系統(tǒng)，用于電源、5G 射頻和光子學(xué)，單晶圓反應(yīng)器技術(shù)為電源、5G 射頻和光子學(xué)應(yīng)用提供高效、高質(zhì)量的氮化鎵基器件
型號(hào)： Propel HV... 所在地：深圳市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/5 15:28:38 對(duì)比

金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積 MOCVD
ALD
Beneq Transform 300 是一個(gè)高度通用的制造平臺(tái)，面向致力于 CIS、電源、Micro-OLED/LED、先進(jìn)封裝和其他 MtM 應(yīng)用的 IDM...
型號(hào)： Beneq Tra... 所在地：深圳市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/5 15:22:26 對(duì)比

ALD
ALD
Beneq Prodigy™ 是 VCSEL、LED 和 MEMS 制造商和代工廠的理想制造解決方案，他們希望通過(guò)經(jīng)濟(jì)實(shí)惠的獨(dú)立 ALD 批處理工具...
型號(hào)： Beneq Pro... 所在地：深圳市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/5 15:19:11 對(duì)比

ALD
卷對(duì)卷薄膜濺射系統(tǒng)
卷對(duì)卷薄膜濺射系統(tǒng)裝置在真空狀態(tài)中對(duì)PET Film，以ITO或Metal Coating的設(shè)備, Heating, Plasma Etching, Sputt...
型號(hào)： KaRoll RT... 所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/5 15:10:21 對(duì)比

鍍膜卷對(duì)卷薄膜濺射系統(tǒng)韓國(guó)真空/IOKOVA KaRoll RTR1C
原子層沉積
Beneq Transform在其多功能性和適應(yīng)性方面建立了全新的ALD集群工具產(chǎn)品，以滿足廣泛的應(yīng)用和細(xì)分市場(chǎng)的需求。Beneq Transform 配置多個(gè)...
型號(hào)： Beneq 轉(zhuǎn)換所在地：深圳市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/5 15:03:31 對(duì)比

ALD
Beneq C2R--空間原子層沉積ALD
Beneq C2R 將等離子體增強(qiáng)原子層沉積（PEALD）工藝提升到一個(gè)全新的水平 – PEALD 可用于大批量生產(chǎn)。由于采用等離子體增強(qiáng)旋轉(zhuǎn)原子層沉積工藝...
型號(hào)：所在地：芬蘭參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/5 14:56:52 對(duì)比

原子層沉積 ALD 全自動(dòng)薄膜沉積半導(dǎo)體設(shè)備
碳化硅沉積系統(tǒng)
碳化硅沉積系統(tǒng)G10-碳化硅150 mm 和 200 mm – 支持雙晶圓尺寸 – 為您的未來(lái)投資提供保障市場(chǎng)上最高的晶圓產(chǎn)量 / m2市場(chǎng)上晶圓出色的運(yùn)行過(guò)程...
型號(hào)： G10-碳化硅所在地：德國(guó) 參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/5 14:54:54 對(duì)比

碳化硅
原子層沉積ALD
Beneq P400A 專為以優(yōu)化的批量大小涂覆不同類型的基材而設(shè)計(jì) - 足夠大以提供顯著的容量，但又足夠小以在批次和較短的循環(huán)時(shí)間內(nèi)保持出色的均勻性。我們的客...
型號(hào)： Beneq P40... 所在地：芬蘭參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/5 14:50:57 對(duì)比

原子層沉積 ALD 半導(dǎo)體
單片濕法刻蝕機(jī)
滿足半導(dǎo)體制造中濕法刻蝕工藝，單片加工，適用于SiO2，SiN，Polysilicon和各種金屬層的刻蝕，清洗等工藝流程。
型號(hào)： KS-S300-E 所在地：沈陽(yáng)市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/5 14:50:24 對(duì)比

濕法刻蝕
濕法勻膠工作臺(tái)
Laurell的WS-1000MH系列微型濕法勻膠工作臺(tái)適用于更狹小的空間和較小的預(yù)算。這個(gè)簡(jiǎn)單的工作站被提煉出真正的濕式工作站必須具備的精髓，以實(shí)現(xiàn)最大的經(jīng)濟(jì)...
型號(hào)： WS-1000MH 所在地：美國(guó) 參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/5 14:45:26 對(duì)比

半導(dǎo)體前道勻膠機(jī)
原子層沉積ALD
Beneq P800 專門(mén)設(shè)計(jì)用于涂覆復(fù)雜形狀的大零件或大批量的小零件。我們的客戶將 P800 用于光學(xué)鍍膜、半導(dǎo)體設(shè)備部件的防腐鍍膜，以及在玻璃或金屬板上使用...
型號(hào)： Beneq P80... 所在地：芬蘭參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/5 14:44:22 對(duì)比

ALD 原子層沉積
化合物半導(dǎo)體沉積系統(tǒng)
化合物半導(dǎo)體沉積系統(tǒng)“行星式反應(yīng)器模塊，用于在150/200毫米襯底（Si/藍(lán)寶石/SiC）上應(yīng)用氮化鎵，可提高生產(chǎn)率和晶圓性能"
型號(hào)： AIX G5+ C 所在地：德國(guó) 參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/5 14:41:15 對(duì)比

半導(dǎo)體沉積
原子層沉積ALD
Beneq P1500 是我們最大的原子層沉積系統(tǒng)，專門(mén)用于涂覆大型板材和復(fù)雜零件。它還用于為較小組件的批次提供更高的吞吐量。我們的客戶將 P1500 用于大直...
型號(hào)： Beneq P15... 所在地：芬蘭參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/5 14:39:39 對(duì)比

ALD 原子層沉積半導(dǎo)體 Beneq

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