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激光光刻機.
DWL 2000 GS / DWL 4000 GS 激光光刻系統(tǒng)是快速、靈活的高分辨率圖形發(fā)生器。它們針對工業(yè)級灰度光刻進行了優(yōu)化，設計用于集成電路、MEMS、...
型號： DWL 2000 ... 所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/9/6 10:52:19 對比

微電子 MEMS 微流體
無掩模對光刻機
無掩模對光刻機 MLA 300 提供高吞吐量、簡化的工作流程以及與制造執(zhí)行系統(tǒng) （MES）的集成。該工具用于生產(chǎn)傳感器和傳感器 IC、MEMS 和微流體器件。...
型號： MLA 300 所在地：德國參考價：面議更新時間：2024/9/5 17:12:35 對比

傳感器 MEMS 微流體器件
無掩模光刻機
μMLA無掩模光刻機是優(yōu)良的無模板技術，建立在著名的 μPG 平臺之上，該平臺是臺式無模板系統(tǒng)。
型號： μMLA 所在地：德國參考價：面議更新時間：2024/9/5 14:34:47 對比

微流控小規(guī)模掩模寫入微光學微透鏡陣列
無掩模直接成像儀光刻機
PG 300 DI 是一款體積圖案發(fā)生器，專為在 i 線光刻膠中直接寫入高分辨率微結(jié)構而設計。它源自掩模制作工具，具有所有先進的 VPG 系統(tǒng)組件，能夠以最高的...
型號： VPG 300 D... 所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/9/5 11:22:38 對比

高精度高分辨率
激光掩模光刻機
ULTRA激光掩模光刻機是專門用于成熟半導體光掩模的合格激光掩模機。半導體光掩模用于制造電子設備，包括微控制器、電源管理、LED、物聯(lián)網(wǎng) （IoT）和 ME...
型號： ULTRA 所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/9/4 17:11:10 對比

高吞吐量半導體光掩模 ULTRA
有掩膜光刻機
VPG 200 / VPG 400 體積圖形發(fā)生器是光刻系統(tǒng)，專為 i-line 光刻膠的多用途掩模制造而設計。它們支持所有標準的中小型面罩尺寸，最大尺寸為 4...
型號： VPG 200 /... 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/9/4 16:25:58 對比

掩模制造
雙光子聚合直寫光刻機
MPO 100雙光子聚合直寫光刻機是一種雙光子聚合（TPP）多用戶工具，用于微結(jié)構的 3D 光刻和 3D 顯微打印，適用于微光學、光子學、微機械學和生物醫(yī)學...
型號： MPO 100 所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/9/4 16:00:30 對比

微結(jié)構的 3D 光刻 3D 顯微打印
無掩模直接成像儀
VPG 300 DI 無掩模直接成像儀是一款體積圖案發(fā)生器，專為在 i 線光刻膠中直接寫入高分辨率微結(jié)構而設計。它源自掩模制作工具，具有所有先進的 VPG 系統(tǒng)...
型號： VPG 300 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/8/27 10:34:35 對比

高分辨率微結(jié)構精確高效微結(jié)構制造能力
有掩膜光刻機
VPG 800 / VPG 1400 有掩膜光刻機為光掩模（0.8至1.4 m）的高通量圖案化而定制。VPG1400是我們專為顯示行業(yè)設計的最大的系統(tǒng)。它是平板...
型號： VPG 800 /... 所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/8/27 10:28:56 對比

海德堡有掩膜
激光光刻機
DWL 2000 GS / DWL 4000 GS 激光光刻系統(tǒng)是快速、靈活的高分辨率圖形發(fā)生器。它們針對工業(yè)級灰度光刻進行了優(yōu)化，設計用于集成電路、MEMS、...
型號： DWL 2000 ... 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/8/12 10:10:05 對比

灰度光刻

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