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去膠機(jī)
適用于半導(dǎo)體及LED芯片制造領(lǐng)域中的光刻膠去除、金屬剝離等工藝制程。
型號： KS-S150-4... 所在地：沈陽市參考價：面議更新時間：2024/9/5 17:16:52 對比

去膠
高密度刻蝕機(jī)
GDE C200系列高密度刻蝕機(jī)，等離子體源和頻率設(shè)計，等離子體密度高，適用于強(qiáng)鍵合材料刻蝕。
型號： GDE C200系... 所在地：北京市參考價：面議更新時間：2024/9/5 17:13:09 對比

GDE C200系列高密度刻蝕機(jī)北方華創(chuàng)
無掩模對光刻機(jī)
無掩模對光刻機(jī) MLA 300 提供高吞吐量、簡化的工作流程以及與制造執(zhí)行系統(tǒng) （MES）的集成。該工具用于生產(chǎn)傳感器和傳感器 IC、MEMS 和微流體器件。...
型號： MLA 300 所在地：德國參考價：面議更新時間：2024/9/5 17:12:35 對比

傳感器 MEMS 微流體器件
Amod物理氣相沉積平臺
Angstrom Engineering 的 Amod PVD 平臺是一款物理氣相沉積系統(tǒng)，Amod物理氣相沉積平臺開始允許更大的腔室投射距離，并能夠適應(yīng)更多的...
型號：所在地：加拿大參考價：面議更新時間：2024/9/5 17:10:22 對比

PVD Amod AE 物理氣相沉積
部件鍍膜設(shè)備
部件鍍膜設(shè)備實現(xiàn)高大量生產(chǎn)率的高真空基礎(chǔ)In-line Sputter - 1Carrier/20Sheet(A4 Size)產(chǎn)品 Loading可以，以In-...
型號： For Half ... 所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/9/5 17:09:58 對比

鍍膜 For Half Mirror Coating 韓國真空/IOKOVA 部件鍍膜設(shè)備
程控烤膠機(jī)
LEBO science HP100-SE程控烤膠機(jī)，7寸觸屏PLC控，硬質(zhì)陽極氧化鋁面板，優(yōu)異性能，專業(yè)服務(wù)，實驗理想之選。
型號： HP100-SE標(biāo)... 所在地：南京市參考價：面議更新時間：2024/9/5 17:09:54 對比

烤膠機(jī)
EvoVac 物理氣相沉積平臺
EvoVac PVD 平臺可以做任何您需要的事情。它有一個大腔室，可以配備您需要的任何源或工藝增強(qiáng)。EvoVac 物理氣相沉積平臺是我們具有可定制性的單腔室平臺...
型號：埃沃維克所在地：加拿大參考價：面議更新時間：2024/9/5 17:07:57 對比

EvoVac 物理氣相沉積平臺 PVD Angstrom Engineering
鋁物理氣相沉積系統(tǒng)
eVictor Al PVD 鋁物理氣相沉積系統(tǒng)，優(yōu)良的磁控濺射系統(tǒng)，有效提高薄膜均勻性及靶材利用率。
型號： eVictor A... 所在地：北京市參考價：面議更新時間：2024/9/5 17:07:46 對比

鋁物理氣相沉積系統(tǒng)eVictor Al PVD 北方華創(chuàng)
電感耦合等離子體化學(xué)氣相沉積ICPCVD
該ICPCVD工藝模塊設(shè)計用于在低生長溫度下生產(chǎn)高質(zhì)量的薄膜，通過高密度遠(yuǎn)程等離子體實現(xiàn)，從而實現(xiàn)優(yōu)秀的薄膜質(zhì)量，同時減少基板損傷。
型號： PlasmaPro... 所在地：英國參考價：面議更新時間：2024/9/5 17:06:35 對比

ICPCVD 薄膜沉積等離子體低溫生長
濕法勻膠工作臺
Laurell的WS-1000系列濕法勻膠工作臺的配置和測試模塊建造和運輸安裝時間短。易于裝載和操作，所有物品都讓操作員方便地觸及。
型號： WS-1000 所在地：美國參考價：面議更新時間：2024/9/5 16:50:11 對比

半導(dǎo)體前道勻膠機(jī)
等離子清洗機(jī)
LEBO science的PT500真空等離子清洗機(jī)，作為Plasma Treatment Equipment，具備以下顯著特點：設(shè)備小巧，操作便捷：采用一鍵式...
型號： PT500 所在地：南京市參考價：面議更新時間：2024/9/5 16:39:58 對比

等離子清洗
單晶圓刻蝕系統(tǒng)
憑借在蝕刻GaN，SiC和藍(lán)寶石等材料方面的豐富經(jīng)驗，我們的技術(shù)既能夠滿足性價比的要求、又能使器件的性能得到更優(yōu)化。PlasmaPro 100 Polaris單...
型號： PlasmaPro... 所在地：英國參考價：面議更新時間：2024/9/5 16:33:24 對比

刻蝕堅硬材料刻蝕
部件鍍膜設(shè)備
它實現(xiàn)高大量生產(chǎn)性的高真空基本Sputter - 可以生產(chǎn)1Batch/900EA以上的產(chǎn)品，以沉積及Sputter工序的*化，提升EMI莫品質(zhì) - 證明“沉積...
型號： HVD-1800 ... 所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/9/5 16:26:45 對比

鍍膜 HVD-1800 Series 韓國真空/IOKOVA
單片濕法去膠機(jī)
用于先進(jìn)封裝工藝過程中的晶圓去膠制程和金屬剝離制程。設(shè)備可搭載槽式浸泡單元、高壓噴淋或二流體噴淋去膠單元、清洗及干燥單元等工藝模塊，滿足各種品牌型號、各種厚度的...
型號： KS-S300-S... 所在地：沈陽市參考價：面議更新時間：2024/9/5 16:23:21 對比

去膠
去膠機(jī)
用于封裝領(lǐng)域中的光阻去除工藝，掩膜版清洗，OLED 領(lǐng)域中的光阻去除及蒸鍍后金屬剝離等工藝及化合物半導(dǎo)體領(lǐng)域中的光阻去除及蒸鍍后金屬剝離等工藝
型號： KS-S150-6... 所在地：沈陽市參考價：面議更新時間：2024/9/5 16:17:27 對比

光阻去除掩膜版清洗
高真空蒸發(fā)鍍膜設(shè)備
EC400真空熱蒸鍍膜儀是一款功能全面的高真空蒸發(fā)鍍膜設(shè)備，專為薄膜制備與研究設(shè)計。其核心組件包括真空室、蒸發(fā)源、膜厚監(jiān)測儀、樣品臺、真空獲得與測量系統(tǒng)、氣路系...
型號： EC400 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/9/5 16:13:15 對比

高真空鍍膜
電感耦合等離子體刻蝕
PlasmaPro 100 Cobra ICP RIE系統(tǒng)利用高密度電感耦合等離子體實現(xiàn)快速刻蝕速率。該工藝模塊可提供出色的均勻性、高吞吐量、高精度和低損傷工藝...
型號： PlasmaPro... 所在地：英國參考價：面議更新時間：2024/9/5 16:11:50 對比

ICP 刻蝕
金屬有機(jī)物化學(xué)氣相沉積設(shè)備
適用于光電應(yīng)用的 Lumina AS/P 金屬有機(jī)物化學(xué)氣相沉積 (MOCVD) 系統(tǒng)
型號： Lumina AS... 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/9/5 16:01:07 對比

金屬有機(jī)物化學(xué)氣相沉積 MOCVD
8英寸通用物理氣相沉積系統(tǒng)
Polaris系列8英寸通用物理氣相沉積系統(tǒng)，多種材料膜層工藝能力，低損傷，高深寬比填充能力。
型號： Polaris系列所在地：北京市參考價：面議更新時間：2024/9/5 16:01:00 對比

Polaris系列 8英寸通用物理氣相沉積系統(tǒng)北方華創(chuàng)
多靶磁控濺射鍍膜系統(tǒng)
MS450高真空磁控濺射鍍膜設(shè)備詳細(xì)組成及功能如下：真空室：提供高真空環(huán)境，確保鍍膜過程的純凈性。濺射靶槍：用于安裝濺射靶材，通過高能粒子轟擊靶材表面，使靶材原...
型號： MS450 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/9/5 15:55:33 對比

物理氣相沉積

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