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RIE等離子蝕刻系統(tǒng)
SENTECH Etchlab 200 RIE等離子蝕刻系統(tǒng)代表了一系列直接加載等離子體蝕刻系統(tǒng)，結合了RIE平行板電極設計的優(yōu)點和直接負載的成本效益設計。
型號： SENTECH E... 所在地：德國參考價：面議更新時間：2024/9/4 17:16:02 對比

RIE SENTECH 刻蝕
低溫ICP-RIE等離子體刻蝕系統(tǒng)
SENTECH SI 500 C 低溫 ICP-RIE 等離子體蝕刻系統(tǒng)代表了電感耦合等離子體（ICP）處理的前沿技術，其最寬溫度范圍為 -150 ...
型號： SENTECH S... 所在地：德國參考價：面議更新時間：2024/9/4 17:00:11 對比

低溫 SENTECH 刻蝕
激光干涉儀
用于SENTECH Instruments等離子系統(tǒng)的SENTECH SLI激光干涉儀端點監(jiān)測器與聚焦的相干激光束一起工作。激光束穿過等離子系統(tǒng)的頂部視口，并被...
型號：所在地：德國參考價：面議更新時間：2024/8/14 10:28:25 對比

激光干涉終點檢測
PEALD 系統(tǒng)
SENTECH True Remote CCP 源可在低溫下對敏感基材和層進行均勻和保形涂層。在樣品表面提供高通量的反應性氣體種類，而沒有紫外線輻射或離子轟擊。...
型號： SI PEALD 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/8/12 10:25:24 對比

PEALD
PEARD系統(tǒng)
SENTECH SILAYO是一種用于光學鍍膜的等離子體增強原子層沉積（PEALD）系統(tǒng)，擴展了SENTECH PECVD和ALD產(chǎn)品組合。SENTECH SI...
型號： SENTECH S... 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/8/12 10:25:06 對比

原子層沉積ALD
等離子體蝕刻系統(tǒng)
SI 500 C 代表了專為低溫蝕刻而設計的電感耦合等離子體（ICP）處理的前沿。SENTECH SI 500 C 低溫 ICP-RIE 等離子體蝕刻系統(tǒng)代...
型號： SI 500 C 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/8/12 10:19:16 對比

低溫蝕刻
等離子蝕刻系統(tǒng)
SENTECH SI 500 ICP-RIE等離子體蝕刻系統(tǒng)使用具有低離子能量的電感耦合等離子體（ICP）源，可實現(xiàn)低損傷蝕刻和納米結構。
型號： SENTECH S... 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/8/12 10:18:54 對比

電感耦合等離子體
開蓋等離子蝕刻系統(tǒng)
等離子蝕刻系統(tǒng) Etchlab 200 具有經(jīng)濟高效的 RIE 直接加載的優(yōu)點。SENTECH Etchlab 200 RIE等離子蝕刻系統(tǒng)代表了一系列直接加載...
型號： Etchlab 2... 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/8/12 10:18:30 對比

等離子蝕刻系統(tǒng)
ICPECVD 系統(tǒng)
電感耦合等離子體（ICP）沉積系統(tǒng)，SENTECH SI 500 D 用于介電膜的高密度、低離子能量和低壓等離子體沉積，以及用于鈍化層的低損傷、低溫沉積。S...
型號： SI 500 D 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/8/12 10:09:28 對比

電感耦合等離子體（ICP）沉積系統(tǒng)

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