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等離子體增強CVD系統
PD-270STLC是一種低溫(80 ~ 400°C)、高速(300 nm/min)的等離子體增強CVD系統，可用于大規(guī)模生產。Samco的液態(tài)源CV...
型號： PD-270STL... 所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/9/6 13:46:15 對比

等離子體增強CVD系統化學氣相沉積 PD-270STLC SAMCO
等離子體增強CVD系統
PD-100ST是一種用于研發(fā)的低溫(80 ~ 400°C)、高速(300 nm/min)等離子體增強CVD系統。Samco的液態(tài)源CVD系統采用自偏...
型號： PD-100ST 所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/9/6 13:45:35 對比

等離子體增強CVD系統 PD-100ST 化學氣相沉積 SAMCO
電子束蒸發(fā)鍍膜設備
電子束蒸發(fā)鍍膜設備CMS系列極其強大的優(yōu)良研究工具設計用于適應特定的薄膜應用，如 GMR、CMS、半導體、納米級器件、光子學和光伏系統設計可以配置為真正的超高真...
型號： CMS系列所在地：美國參考價：面議更新時間：2024/9/6 11:45:39 對比

鍍膜 KURT.J.LESKER CMS系列電子束蒸發(fā)鍍膜設備
磁控濺射鍍膜設備
Kurt J. Lesker Company LAB Line UHV 磁控濺射鍍膜設備專為磁控濺射沉積應用而設計。為滿足 UHV 濺射工藝需求而定制的腔室設計...
型號： LAB Line 所在地：美國參考價：面議更新時間：2024/9/6 11:41:33 對比

磁控濺射磁控濺射鍍膜設備 LAB Line KURT.J.LESKER
卷繞式濺射設備
卷繞式濺射設備SPW系列SPW系列設備，是可在塑料薄膜上進行光學膜、金屬膜等多層成膜的卷繞式設備。實施成膜室間的氣氛分隔，可以使高性能的多層膜一次性成膜。
型號： SPW系列所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/9/6 11:40:39 對比

卷繞式濺射設備 SPW系列
卷繞式真空蒸鍍設備
卷繞式真空蒸鍍設備 EW系列塑料薄膜、紙、金屬箔等連續(xù)卷繞的同時，對金屬和氧化物進行蒸鍍的成膜設備。從小型的實驗機到大量的生產設備，此外，還提供一系列用于包裝材...
型號： EW系列所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/9/6 11:37:33 對比

EW系列卷繞式真空蒸鍍設備
無針孔薄膜沉積設備
AL-1無針孔薄膜沉積設備通過交替向反應室提供有機金屬原料和氧化劑，僅利用表面反應沉積薄膜，實現了高膜厚控制和良好的步驟覆蓋率。薄膜的厚度可以控制在原子層的數量...
型號： AL-1 所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/9/6 11:36:36 對比

AL-1 無針孔薄膜沉積設備 SAMCO
縱向式Cat-CVD設備
縱向式Cat-CVD設備CCV系列CCV Series是a-Si鍍膜用的縱向式CVD設備。有30年以上的量產實績。在各個chamber通過低壓鍍膜，得到高品質的...
型號： CCV系列所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/9/6 11:31:40 對比

縱向式Cat-CVD設備 CCV系列鍍膜設備
枚葉式PECVD設備
枚葉式PECVD設備CME-200E/400枚葉式PE-CVD設備CME-200E/400是適用于Si系絕緣膜、barrier膜等成膜的量產用PECVD設備。
型號： CME-200E/... 所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/9/6 11:29:22 對比

枚葉式PECVD設備鍍膜設備
Load-lock式Plasma CVD設備
Load-lock式Plasma CVD設備 CC-200/400Load-lock式Plasma CVD設備CC-200/400是小型的使用便利的可對應從研究...
型號： CC-200/40... 所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/9/6 11:25:49 對比

CC-200/400 Load-lock式Plasma CVD設備鍍膜設備
枚葉式等離子CVD設備
枚葉式等離子CVD設備CMD系列CMD系列是用SiH4和TEOS成膜的a-Si膜、氧化硅膜、氮化膜成膜用的枚葉式CVD設備。
型號： CMD系列所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/9/6 11:18:01 對比

枚葉式等離子CVD設備鍍膜設備 CMD系列
等離子體沉積ALD
等離子體沉積ALD AD-230LP是一種原子層沉積（ALD）系統，能夠在原子水平上控制薄膜厚度。有機金屬原料和氧化劑交替供給反應室，僅通過表面反應進行薄膜沉積...
型號： AD-230LP 所在地：日本參考價：面議更新時間：2024/9/6 11:14:50 對比

SAMCO 等離子體沉積等離子體沉積ALD AD-230LP
濺射或熱蒸發(fā)薄膜沉積系統
Kurt J. Lesker Company® NANO 36™ 濺射或熱蒸發(fā)薄膜沉積系統是我們優(yōu)化的入門級沉積系統。我們的腔室設計特別適...
型號： NANO 36&t... 所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/9/6 11:12:06 對比

薄膜沉積 NANO 36™KURT.J.LESKER 濺射或熱蒸發(fā)薄膜沉積系統
臨時鍵合機
XBS300臨時膠合劑適用于大批量生產的通用型臨時鍵合機SUSS MicroTec的XBS300臨時鍵合平臺是新一代用于大批量生產的臨時鍵合機解決方案。200/...
型號： XBS300 所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/9/6 11:08:34 對比

XBS300臨時膠合劑臨時膠合劑
全封閉式桌面顯影機
DM200-SE全封閉式桌面顯影機的特點包括：全封閉式顯影：有效避免顯影過程中產生的霧氣擴散到外部，從而保護環(huán)境免受污染。外殼噴塑處理：外殼采用噴塑工藝，不僅耐...
型號： DM200-SE 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/9/6 11:07:24 對比

顯影
沉積和金屬化系統
Kurt J. Lesker Company Mini SPECTROS™是基于主力SPECTROS平臺的下一代薄膜沉積系統。SPECTROS平臺在...
型號： Mini SPEC... 所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/9/6 11:06:45 對比

沉積和金屬化系統 KURT.J.LESKER Mini SPECTROS
涂膠顯影半自動機臺
KS-M300半自動機臺可用于單片晶片涂膠、顯影、噴膠、清洗、刻蝕、去膠工藝及掩膜板涂膠、顯影、清洗工藝。適用于小批量生產的工藝試驗和生產線。占地面積小，操作時...
型號： KS-M300 所在地：沈陽市參考價：面議更新時間：2024/9/6 11:03:22 對比

涂膠顯影
手動光刻機
MS6-CA手動光刻機是一款高性能的精密加工設備，專為微電子、半導體、光電等領域的研發(fā)與生產設計。
型號： MS6-CA 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/9/6 11:00:51 對比

光刻機
等離子增強化學氣相沉積PECVD
PlasmaPro 80是一種結構緊湊且使用方便的小型直開式系統，可以提供多種刻蝕和沉積的解決方案。它易于放置，便于使用，且能確保工藝性能。直開式設計可實現快...
型號： PlasmaPro... 所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/9/6 11:00:14 對比

牛津 PECVD
BA Gen4 鍵合機
BA Gen4 鍵合機在鍵合過程中精確對準，鍵合對準器 BA Gen4 Series 是專為手動對準并鍵合兩個 200 毫米以下晶圓而設計的。選配掩模對準器工具...
型號： BA Gen4 S... 所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/9/6 10:59:58 對比

BA Gen4系列鍵合對準機鍵合對準機 SUSS BA Gen4 Series

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