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多功能刻蝕機(jī)
GSE C200 多功能刻蝕機(jī)等離子體源設(shè)計，保證良好的刻蝕均勻性.GSE C200采用高密度等離子體源，刻蝕速率高、均勻性好、顆?？刂颇芰?、易維護(hù)、性能穩(wěn)定...
型號： GSE C200 所在地：北京市參考價：面議更新時間：2024/9/6 9:28:16 對比

多功能刻蝕機(jī)GSE C200 北方華創(chuàng)
離子束刻蝕機(jī)
EIS-200ERP是由ELIONIX研發(fā)的離子束刻蝕機(jī)，緊湊和高性能，使用 ECR 離子束可以進(jìn)行納米蝕刻和沉積，制品特微。
型號： EIS-200ER... 所在地：日本參考價：面議更新時間：2024/9/5 21:26:34 對比

半導(dǎo)體前道刻蝕
離子束刻蝕機(jī)
EIS-1500是由ELIONIX研發(fā)的108mm的大直徑光束，通過充分利用光束面內(nèi)分布監(jiān)控功能，可以實現(xiàn)各向異性干法蝕刻的離子束刻蝕機(jī)。
型號： EIS-1500 所在地：日本參考價：面議更新時間：2024/9/5 21:22:03 對比

半導(dǎo)體前道刻蝕
12英寸金屬刻蝕機(jī)
NMC 612G 12英寸金屬刻蝕機(jī)，可用于鋁、硅，氧化物、鉬、氧化銦錫等多種材料刻蝕。
型號： NMC 612G 所在地：北京市參考價：面議更新時間：2024/9/5 17:18:00 對比

12英寸金屬刻蝕機(jī)NMC 612G 北方華創(chuàng)
高密度刻蝕機(jī)
GDE C200系列高密度刻蝕機(jī)，等離子體源和頻率設(shè)計，等離子體密度高，適用于強鍵合材料刻蝕。
型號： GDE C200系... 所在地：北京市參考價：面議更新時間：2024/9/5 17:13:09 對比

GDE C200系列高密度刻蝕機(jī)北方華創(chuàng)
單晶圓刻蝕系統(tǒng)
憑借在蝕刻GaN，SiC和藍(lán)寶石等材料方面的豐富經(jīng)驗，我們的技術(shù)既能夠滿足性價比的要求、又能使器件的性能得到更優(yōu)化。PlasmaPro 100 Polaris單...
型號： PlasmaPro... 所在地：英國參考價：面議更新時間：2024/9/5 16:33:24 對比

刻蝕堅硬材料刻蝕
電感耦合等離子體刻蝕
PlasmaPro 100 Cobra ICP RIE系統(tǒng)利用高密度電感耦合等離子體實現(xiàn)快速刻蝕速率。該工藝模塊可提供出色的均勻性、高吞吐量、高精度和低損傷工藝...
型號： PlasmaPro... 所在地：英國參考價：面議更新時間：2024/9/5 16:11:50 對比

ICP 刻蝕
單片濕法刻蝕機(jī)
滿足半導(dǎo)體制造中濕法刻蝕工藝，單片加工，適用于SiO2，SiN，Polysilicon和各種金屬層的刻蝕，清洗等工藝流程。
型號： KS-S300-E 所在地：沈陽市參考價：面議更新時間：2024/9/5 14:50:24 對比

濕法刻蝕
芯片刻蝕機(jī)
ELEDE® 380系列芯片刻蝕機(jī)，優(yōu)良的等離子體發(fā)生裝置，適用多種材料刻蝕，工藝窗口寬。
型號： ELEDE... 所在地：北京市參考價：面議更新時間：2024/9/5 14:26:03 對比

芯片刻蝕機(jī)ELEDE® 380系列北方華創(chuàng)
多腔等離子體刻蝕系統(tǒng)
多腔等離子體刻蝕系統(tǒng)-概述：1.方案是適用于最大 8 吋晶圓的多腔等離子體刻蝕工藝系統(tǒng)2.系統(tǒng)可用于研發(fā)和小批量生產(chǎn)3.系統(tǒng)兼容 8 吋、6 吋、4 吋、3 吋...
型號： customize... 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/9/5 10:56:26 對比

等離子體刻蝕系統(tǒng)刻蝕系統(tǒng)
CCP介質(zhì)刻蝕機(jī)
NMC 508系列 CCP介質(zhì)刻蝕機(jī)，多頻解耦設(shè)計，實現(xiàn)優(yōu)異的均勻性及高深寬比介質(zhì)刻蝕。
型號： NMC 508系列所在地：北京市參考價：面議更新時間：2024/9/5 10:13:55 對比

CCP介質(zhì)刻蝕機(jī)NMC 508系列北方華創(chuàng)
等離子刻蝕集群系統(tǒng)
SENTECH 集群系統(tǒng)包括等離子體蝕刻和/或沉積模塊、一個轉(zhuǎn)移室和一個真空負(fù)載鎖或盒式站。包括搬運機(jī)器人在內(nèi)的轉(zhuǎn)移室有三到六個端口。最多可以使用兩個盒式磁帶站...
型號： SENTECH 集... 所在地：德國參考價：面議更新時間：2024/9/5 10:04:54 對比

刻蝕沉積真空室集群系統(tǒng)
ICP 刻蝕機(jī)
NMC 508系列 ICP刻蝕機(jī)是電感耦合高密度等離子體（Inductively Coupled Plasma, ICP）干法刻蝕機(jī)，具有高精度、高選擇性和高效...
型號： NMC 508系列所在地：北京市參考價：面議更新時間：2024/9/5 9:58:11 對比

ICP刻蝕機(jī)NMC 508系列北方華創(chuàng)
AL實時監(jiān)控器
SENTECH AL 實時監(jiān)測器是一種經(jīng)過驗證的光學(xué)診斷工具，可實現(xiàn)單個 ALD 和 ALE 周期的超高分辨率。主要應(yīng)用是在不破壞真空的情況下分析薄膜特性（生長...
型號： SENTECH A... 所在地：德國參考價：面議更新時間：2024/9/5 9:53:27 對比

ALD 實時監(jiān)控
RIE等離子刻蝕系統(tǒng)
SENTECH SI 500 CCP 系統(tǒng)使用動態(tài)溫度控制和氦背冷卻，代表了材料蝕刻靈活性的優(yōu)勢。等離子體蝕刻過程中的襯底溫度設(shè)置和穩(wěn)定性是高質(zhì)量蝕刻的嚴(yán)格標(biāo)準(zhǔn)...
型號： SENTECH S... 所在地：德國參考價：面議更新時間：2024/9/4 17:35:38 對比

RIE 刻蝕 SENTECH
等離子刻蝕系統(tǒng)RIE
SENTECH SI 591 緊湊型 RIE 等離子蝕刻系統(tǒng)具有負(fù)載鎖定功能，是氯基和氟基 RIE 的緊湊型解決方案。
型號： SENTECH S... 所在地：德國參考價：面議更新時間：2024/9/4 17:31:13 對比

RIE 等離子刻蝕 SENTECH
RIE等離子蝕刻系統(tǒng)
SENTECH Etchlab 200 RIE等離子蝕刻系統(tǒng)代表了一系列直接加載等離子體蝕刻系統(tǒng)，結(jié)合了RIE平行板電極設(shè)計的優(yōu)點和直接負(fù)載的成本效益設(shè)計。
型號： SENTECH E... 所在地：德國參考價：面議更新時間：2024/9/4 17:16:02 對比

RIE SENTECH 刻蝕
深硅刻蝕設(shè)備
RIE-400iPB是一款電感耦合等離子體放電設(shè)備，用于博世MEMS和電子元件工藝中的高速硅深孔加工。RIE-800iPB是為研究和開發(fā)目的而改裝的。該系統(tǒng)由R...
型號： RIE-400iP... 所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/9/4 17:12:01 對比

深硅刻蝕設(shè)備 RIE-400iPB SAMCO
等離子體（ICP）刻蝕設(shè)備
RIE-350iPC是一種盒式裝載電感耦合等離子體(ICP)蝕刻設(shè)備，可處理多達(dá)ø350毫米的載盤，用于多晶圓批量處理。該系統(tǒng)為各種蝕刻應(yīng)用提供了堅固...
型號： RIE-350iP... 所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/9/4 17:03:21 對比

等離子體（ICP）刻蝕設(shè)備 RIE-350iPC SAMCO
低溫ICP-RIE等離子體刻蝕系統(tǒng)
SENTECH SI 500 C 低溫 ICP-RIE 等離子體蝕刻系統(tǒng)代表了電感耦合等離子體（ICP）處理的前沿技術(shù)，其最寬溫度范圍為 -150 ...
型號： SENTECH S... 所在地：德國參考價：面議更新時間：2024/9/4 17:00:11 對比

低溫 SENTECH 刻蝕

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