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離子束沉積設(shè)備
光掩模制造需要高水平的顆?？刂疲瑫r(shí)沉積復(fù)雜的多層薄膜結(jié)構(gòu)。Veeco 的 Nexus IBD-LDD 離子束沉積系統(tǒng)可以應(yīng)對這一挑戰(zhàn)。自 1990 年代以來，...
型號： NEXUS IBD... 所在地：深圳市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 10:02:06 對比

PVD 離子束沉積薄膜沉積
薄膜沉積PVD設(shè)備
Kurt J. Lesker Company PVD-BATCH DRUM系列由兩種標(biāo)準(zhǔn)尺寸（PVD 200 和 PVD 500）組成，可配置為水平或垂直配置。...
型號： PVD-BATCH... 所在地：國外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 9:44:10 對比

PVD-BATCH DRUM 薄膜沉積PVD設(shè)備 KURT.J.LESKER
離子束沉積設(shè)備
適用于硬偏置、引線、絕緣層和傳感器堆棧沉積數(shù)據(jù)存儲制造商可以借助 Veeco 的第三代 NEXUS® 離子束沉積（IBD）系統(tǒng)大幅提高 80Gb/...
型號： NEXUS IBD 所在地：深圳市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 9:27:40 對比

薄膜沉積離子束沉積
新型離子槍
通過采用結(jié)合空心陽極離子槍和磁控管離子槍的新型離子槍，可實(shí)現(xiàn)了超精細(xì)結(jié)構(gòu)的薄膜。
型號： ESC-101 所在地：日本參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/5 17:43:44 對比

半導(dǎo)體前道薄膜
科瓦普物理氣相沉積平臺
科瓦普物理氣相沉積平臺COVAP PVD 為許多過程應(yīng)用提供了緊湊、經(jīng)濟(jì)且仍然強(qiáng)大的解決方案。專為需要安全可靠的工具的實(shí)驗(yàn)室而設(shè)計(jì)，該工具可在緊湊的占地面積內(nèi)生...
型號： COVAP 所在地：加拿大參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/5 17:34:37 對比

COVAP PVD AE 物理氣相沉積平臺
部件鍍膜設(shè)備
部件鍍膜設(shè)備KaLine 8V是在真空狀態(tài)中向產(chǎn)品外部涂層非導(dǎo)體的設(shè)備,在真空內(nèi)產(chǎn)品做自空傳,由能保持一定的膜厚度構(gòu)成的.
型號： KaLine 8V 所在地：國外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/5 17:21:20 對比

鍍膜韓國真空/IOKOVA 部件鍍膜設(shè)備韓國真空/IOKOVA
AE物理氣相沉積平臺
AE物理氣相沉積平臺Nexdep PVD在經(jīng)濟(jì)性和多功能性之間取得了平衡。它可以配備強(qiáng)大的工藝增強(qiáng)功能，而不會占用實(shí)驗(yàn)室的所有空間或預(yù)算。您的研究目標(biāo)、生產(chǎn)需求...
型號： NEXDEP 所在地：加拿大參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/5 17:18:04 對比

NEXDEP PVD AE 物理氣相沉積平臺
Amod物理氣相沉積平臺
Angstrom Engineering 的 Amod PVD 平臺是一款物理氣相沉積系統(tǒng)，Amod物理氣相沉積平臺開始允許更大的腔室投射距離，并能夠適應(yīng)更多的...
型號：所在地：加拿大參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/5 17:10:22 對比

PVD Amod AE 物理氣相沉積
部件鍍膜設(shè)備
部件鍍膜設(shè)備實(shí)現(xiàn)高大量生產(chǎn)率的高真空基礎(chǔ)In-line Sputter - 1Carrier/20Sheet(A4 Size)產(chǎn)品 Loading可以，以In-...
型號： For Half ... 所在地：國外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/5 17:09:58 對比

鍍膜 For Half Mirror Coating 韓國真空/IOKOVA 部件鍍膜設(shè)備
EvoVac 物理氣相沉積平臺
EvoVac PVD 平臺可以做任何您需要的事情。它有一個(gè)大腔室，可以配備您需要的任何源或工藝增強(qiáng)。EvoVac 物理氣相沉積平臺是我們具有可定制性的單腔室平臺...
型號：埃沃維克所在地：加拿大參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/5 17:07:57 對比

EvoVac 物理氣相沉積平臺 PVD Angstrom Engineering
鋁物理氣相沉積系統(tǒng)
eVictor Al PVD 鋁物理氣相沉積系統(tǒng)，優(yōu)良的磁控濺射系統(tǒng)，有效提高薄膜均勻性及靶材利用率。
型號： eVictor A... 所在地：北京市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/5 17:07:46 對比

鋁物理氣相沉積系統(tǒng)eVictor Al PVD 北方華創(chuàng)
部件鍍膜設(shè)備
它實(shí)現(xiàn)高大量生產(chǎn)性的高真空基本Sputter - 可以生產(chǎn)1Batch/900EA以上的產(chǎn)品，以沉積及Sputter工序的*化，提升EMI莫品質(zhì) - 證明“沉積...
型號： HVD-1800 ... 所在地：國外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/5 16:26:45 對比

鍍膜 HVD-1800 Series 韓國真空/IOKOVA
高真空蒸發(fā)鍍膜設(shè)備
EC400真空熱蒸鍍膜儀是一款功能全面的高真空蒸發(fā)鍍膜設(shè)備，專為薄膜制備與研究設(shè)計(jì)。其核心組件包括真空室、蒸發(fā)源、膜厚監(jiān)測儀、樣品臺、真空獲得與測量系統(tǒng)、氣路系...
型號： EC400 所在地：深圳市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/5 16:13:15 對比

高真空鍍膜
金屬有機(jī)物化學(xué)氣相沉積設(shè)備
適用于光電應(yīng)用的 Lumina AS/P 金屬有機(jī)物化學(xué)氣相沉積 (MOCVD) 系統(tǒng)
型號： Lumina AS... 所在地：深圳市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/5 16:01:07 對比

金屬有機(jī)物化學(xué)氣相沉積 MOCVD
8英寸通用物理氣相沉積系統(tǒng)
Polaris系列8英寸通用物理氣相沉積系統(tǒng)，多種材料膜層工藝能力，低損傷，高深寬比填充能力。
型號： Polaris系列所在地：北京市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/5 16:01:00 對比

Polaris系列 8英寸通用物理氣相沉積系統(tǒng)北方華創(chuàng)
多靶磁控濺射鍍膜系統(tǒng)
MS450高真空磁控濺射鍍膜設(shè)備詳細(xì)組成及功能如下：真空室：提供高真空環(huán)境，確保鍍膜過程的純凈性。濺射靶槍：用于安裝濺射靶材，通過高能粒子轟擊靶材表面，使靶材原...
型號： MS450 所在地：深圳市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/5 15:55:33 對比

物理氣相沉積
高真空熱阻蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)
高真空熱阻蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)主要由有機(jī)/金屬源蒸發(fā)沉積室、真空排氣系統(tǒng)；真空測量系統(tǒng)；蒸發(fā)源；樣品加熱控溫；電控系統(tǒng)；配氣系統(tǒng)等部分組成。該系統(tǒng)可與手套箱對接。熱...
型號： DZ450 所在地：沈陽市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/5 15:50:43 對比

高真空熱阻蒸發(fā)薄膜沉積
部件鍍膜設(shè)備
部件鍍膜設(shè)備是在真空狀態(tài)下在產(chǎn)品外部涂層非導(dǎo)電體的Coating設(shè)備，由真空內(nèi)產(chǎn)品做著自傳，公轉(zhuǎn),并能保持一定的膜厚度.
型號： KaRon 設(shè)備所在地：國外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/5 15:41:20 對比

鍍膜
卷對卷薄膜濺射系統(tǒng)
卷對卷薄膜濺射系統(tǒng)是在真空狀態(tài)下用于micro phone的厚度為4u Film的Gold(AU)做Sputtering的設(shè)備.
型號： Roll to R... 所在地：國外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/5 15:35:17 對比

鍍膜濺射卷對卷薄膜濺射系統(tǒng)
卷對卷薄膜濺射系統(tǒng)
卷對卷薄膜濺射系統(tǒng)裝置在真空狀態(tài)中對PET Film，以ITO或Metal Coating的設(shè)備, Heating, Plasma Etching, Sputt...
型號： KaRoll RT... 所在地：國外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/5 15:10:21 對比

鍍膜卷對卷薄膜濺射系統(tǒng)韓國真空/IOKOVA KaRoll RTR1C

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