等離子清洗機(jī)/表面處理系統(tǒng) 參考價：面議
PLUTO-MH等離子清洗機(jī)，等離子表面處理系統(tǒng)（實(shí)驗(yàn)平臺）是針對于高校，科學(xué)研究所和企業(yè)實(shí)驗(yàn)室，或者小批量生產(chǎn)的創(chuàng)新性企業(yè)而研發(fā)的創(chuàng)新型實(shí)驗(yàn)平臺。針對用戶不同...
等離子體表面處理儀/清洗機(jī) 參考價：面議
PLUTO-160等離子體表面處理儀，等離子清洗機(jī)是一款為工業(yè)級客戶和研發(fā)型客戶使用需求設(shè)計(jì)的寬泛使用等離子表面處理設(shè)備，適用于等離子清洗，活化以及刻蝕等多種應(yīng)...
等離子表面處理機(jī)/清洗機(jī) 參考價：面議
等離子表面處理機(jī)/清洗機(jī)廠家介紹其利用等離子體在氣體放電中產(chǎn)生的活性物種對材料表面進(jìn)行處理。其主要原理是通過加熱氣體，使其電離形成等離子體，然后利用等離子體中的...
PLUTO-F(14.5L)實(shí)驗(yàn)室方腔等離子清洗機(jī) 參考價：面議
PLUTO-F(14.5L)實(shí)驗(yàn)室方腔等離子清洗機(jī)/等離子體表面處理系統(tǒng)是一款功能強(qiáng)大的桌面型表面等離子體設(shè)備，非常適合于高校、科學(xué)研究所和企業(yè)實(shí)驗(yàn)室，或者小批...
CCP等離子刻蝕機(jī) 參考價：88000
CCP等離子刻蝕機(jī)(Plasma Etcher)是一種常用于微納米加工領(lǐng)域的設(shè)備，用于對半導(dǎo)體器件、光學(xué)元件、生物芯片等材料進(jìn)行精細(xì)加工和圖案定義。其原理基于等...
科研型等離子體干法刻蝕（ICP/CCP）系統(tǒng) 參考價：499999
PLUTO-E100型科研型等離子體干法刻蝕（ICP/CCP）系統(tǒng)是一款低成本，適合于科研機(jī)構(gòu)實(shí)驗(yàn)室的桌面型科研設(shè)備，整套系統(tǒng)的目的是在4寸以及以下的樣品上進(jìn)行...
PLUTO-80等離子清洗機(jī)/表面處理系統(tǒng) 參考價：面議
PLUTO-80等離子清洗機(jī)，表面處理系統(tǒng)是專為研發(fā)而設(shè)計(jì)的全功能等離子體系統(tǒng)，13.56MHz射頻發(fā)生器和自動匹配網(wǎng)絡(luò)電源在整個過程區(qū)域產(chǎn)生均勻的等離子體。P...
等離子清洗機(jī)plasma 參考價：面議
等離子清洗機(jī)plasma，也稱為等離子清潔機(jī)或等離子表面處理機(jī)，是一種全新的高科技技術(shù)。它通過將氣體施加足夠的能量使之離化，形成等離子狀態(tài)。等離子體是一種特殊的...
等離子清洗機(jī)/表面處理機(jī)/去膠機(jī) 參考價：面議
PLUTO-30型等離子清洗機(jī),等離子處理機(jī),等離子去膠機(jī)是專為研發(fā)而設(shè)計(jì)的全功能等離子體系統(tǒng)，13.56MHz射頻發(fā)生器和自動匹配網(wǎng)絡(luò)電源在整個過程區(qū)域產(chǎn)生均...
ICP等離子刻蝕機(jī) 參考價：88000
ICP等離子刻蝕機(jī)WINETCH是面向科研及企業(yè)研發(fā)客戶使用需求設(shè)計(jì)的高性價比ICP等離子體系統(tǒng)。作為一個多功能系統(tǒng)，它通過優(yōu)化的系統(tǒng)設(shè)計(jì)與靈活的配置方案，獲得...
真空等離子體涂覆薄膜沉積設(shè)備 參考價：面議
真空等離子體涂覆薄膜沉積設(shè)備Pluto-MC利用等離子體改性時，將試樣置于特定的離子處理裝置中，通過高能態(tài)的等離子轟擊試樣的表面，將能量傳遞給試樣表層的分子，使...(空格分隔,最多3個,單個標(biāo)簽最多10個字符)
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