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| 價格區(qū)間 | 面議 | 儀器種類 | 場發(fā)射 |
|---|---|---|---|
| 應用領域 | 電子/電池 |
日立的冷場發(fā)射電子源和300 kV加速電壓技術共同打造了超高分辨率成像和高靈敏度分析功能。雙棱鏡全息技術，空間分辨電子能量損失譜以及高精度平行納米電子束衍射技術開辟了高效，高精度樣品分析的新途徑。
產品簡介
詳細介紹
高亮度場發(fā)射電子槍冷
冷場發(fā)射電子槍先天具有的高亮度和高能量分辨率的特點，使納米量級分析研究成為可能，對超高分辨圖像和電子全息攝影具有極大貢獻。
300kV高壓系統
300kV高壓系統具有更高的穿透能力，保證了厚樣品的原子分辨率圖像，降低了樣品制備難度，尤其對于金屬、陶瓷等高原子序數樣品的觀測十分有利。
*的分析能力
新引入了雙重雙棱鏡全息攝影功能、高空間分辨率電子能量損失譜（EELS）和高精度平行納米束衍射技術等*的分析技術。
可與FIB聯用樣品桿
日立公司專有的樣品桿可適應FIB、TEM和STEM的使用。
簡便易用的控制系統
基于Windows開發(fā)的電腦控制系統、馬達驅動可動光闌和5軸馬達樣品臺使得儀器簡單易用，10分鐘的升壓時間和1分鐘的換樣時間保證了儀器高效率的運轉。
分辨率
0.1 nm(晶體點陣)
0.19 nm(點對點)
0.13 nm(信息極限)
放大倍數
200倍 至 1,500,000倍
加速電壓
300 kV, 200 kV*,
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