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SI 500D等離子沉積系統(tǒng)是ICP-PECVD設(shè)備，利用ICP高密度等離子源來(lái)沉積電介質(zhì)薄膜?？稍跇O低溫度下（ 100ºC）沉積高質(zhì)量SiO2, S...

QAM 系列鍍膜設(shè)備是一種用于研究開發(fā)的精密濺射鍍膜機(jī)，可用于各種基板上的包括磁性材料薄膜、超晶格薄膜的濺射鍍膜制程

PICOSUN原子層沉積系統(tǒng)ALD R-300高級(jí)版；Picosun 300mm生產(chǎn)線上的產(chǎn)品是300mm以下晶圓的自動(dòng)化、高產(chǎn)量的工業(yè)ALD加工設(shè)備。

PICOSUN 原子層沉積系統(tǒng)ALD R-200 Pro；PICOSUN R-200 Advanced ALD系統(tǒng)適用于數(shù)十種應(yīng)用的研發(fā)，例如IC組件，MEMS...

PICOSUN原子層沉積系統(tǒng)ALD R-200高級(jí)版；系統(tǒng)適用于數(shù)十種應(yīng)用的研發(fā)，例如IC組件，MEMS器件，顯示器，LED，激光和3D對(duì)象，例如透鏡，光學(xué)器件...

PICOSUN®R-200標(biāo)準(zhǔn)ALD系統(tǒng)適用于數(shù)十種應(yīng)用的研發(fā)，例如IC組件，MEMS器件，顯示器，LED，激光和3D對(duì)象，例如透鏡，光學(xué)器件，珠寶，...

SEMILAB-SE2000 全光譜橢偏測(cè)試平臺(tái)基于橢圓偏振測(cè)試技術(shù)，采用良好的旋轉(zhuǎn)補(bǔ)償器，結(jié)合光纖專li技術(shù)將偏振光信號(hào)傳輸至分段光譜優(yōu)化的高分辨率單色儀或陣...

SEMILAB-全光譜橢偏儀GES5E 基于橢圓偏振測(cè)試技術(shù)，采用良好的旋轉(zhuǎn)補(bǔ)償器，結(jié)合光纖技術(shù)將偏振光信號(hào)傳輸至分段光譜優(yōu)化的高分辨率單色儀或陣列式多通道攝譜...

離子注入機(jī)由離子源、質(zhì)量分析器、加速器、四級(jí)透鏡、掃描系統(tǒng)和靶室組成，可以根據(jù)實(shí)際需要省去次要部位。離子源是離子注入機(jī)的主要部位，作用是把需要注入的元素氣態(tài)粒子...

丹頓真空的Discovery系列在世界許多著名的研究機(jī)構(gòu)得到廣泛的應(yīng)用，是業(yè)內(nèi)*的靈活、可靠的磁控濺射系統(tǒng)。從15年前開發(fā)以來(lái)，該系統(tǒng)已經(jīng)銷售超過(guò)100臺(tái)，在國(guó)...

目前，丹頓真空已為客戶設(shè)計(jì)制造了總數(shù)超過(guò)5千臺(tái)的各種規(guī)格的電阻/電子束蒸發(fā)、磁控濺射、離子束濺射/刻蝕和等離子體化學(xué)氣相沉積鍍膜系統(tǒng)，產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于科研開發(fā)、小...

SI 500D等離子沉積系統(tǒng)是ICP-PECVD設(shè)備，利用ICP高密度等離子源來(lái)沉積電介質(zhì)薄膜。可在極低溫度下（ 100ºC）沉積高質(zhì)量SiO2, S...