主要技術(shù)指標：

       溫度范圍：4.2-500 K

       zui大磁場： 5000 Oe

       推薦樣品大?。?-2.5 cm

       zui小克爾轉(zhuǎn)角檢出角：0.5 mdeg 
       zui小反射率變化率檢出量：0.02%

   主要點：

    1、非常高的靈敏度和穩(wěn)定性，非常低的噪音，可以探測到低至 10-12 emu 的磁矩。

    2、高度聚焦的激光，激光束斑達到 2 μm，可以輕松進行樣品的局部或單個結(jié)構(gòu)的性能檢測。

    3、進的樣品定位技術(shù)。光路中集成光學(xué)顯微鏡以觀測激光束斑的聚焦點和大?。粧呙杩藸栵@微鏡可以

       樣品的交流磁化率圖像以及反射率圖像，幫助用戶選擇樣品的精細測量區(qū)域。

    4、靈活開放的系統(tǒng)設(shè)計。所有的光學(xué)器件都安裝在個標準光學(xué)平臺上，允許用戶對光學(xué)器件進行調(diào)整

       足自己的科研需要。

    5、任意的磁場波形控制?？梢赃x配多種電磁體：四磁體、偶磁體以及螺線管磁體，能夠輕松地在樣

       表面產(chǎn)生各種復(fù)雜的磁場。

    6、簡單易用的操作控制軟件 LX Pro。該軟件基于微軟的 Windows 系統(tǒng)，能夠自動完成所有實驗以及

       驗數(shù)據(jù)的處理。