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[供應(yīng)]Microwriter ML

貨物所在地：北京北京市

產(chǎn)地：英國(guó)

更新時(shí)間：2025-02-20 21:00:08

有效期：2025年2月20日 -- 2025年8月20日

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MicroWriter MLTM是款設(shè)計(jì)的激光直寫光刻系統(tǒng)，不僅具有無掩模板直寫系統(tǒng)的靈活性，還擁有高書寫速度和低成本的點(diǎn)。15個(gè)藍(lán)光激光頭可以在電腦控制下進(jìn)行平行工作對(duì)基片上無需高分辨率的部分進(jìn)行高速書寫曝光，之后自動(dòng)切換高分辨激光，并對(duì)需要高分辨的細(xì)節(jié)進(jìn)行加工。這樣的設(shè)計(jì)在加工速度和分辨率之間取得了的平衡，并通過軟件改變曝光圖案設(shè)計(jì)完整保證了其靈活性。

 
 

MicroWriter MLTM是款設(shè)計(jì)的激光直寫光刻系統(tǒng)，不僅具有無掩模板直寫系統(tǒng)的靈活性，還擁有高書寫速度和低成本的點(diǎn)。15個(gè)藍(lán)光激光頭可以在電腦控制下進(jìn)行平行工作對(duì)基片上無需高分辨率的部分進(jìn)行高速書寫曝光，之后自動(dòng)切換高分辨激光，并對(duì)需要高分辨的細(xì)節(jié)進(jìn)行加工。這樣的設(shè)計(jì)在加工速度和分辨率之間取得了的平衡，并通過軟件改變曝光圖案設(shè)計(jì)完整保證了其靈活性。
 
  • 通過15個(gè)激光同時(shí)平行工作，書寫速度達(dá)180min/min
  • 高達(dá)600nm分辨率
  • 樣品尺寸從1mm 到230 mm
  • 對(duì)表面不平樣品自動(dòng)對(duì)焦補(bǔ)償
  • 占地面積小
  • 高性價(jià)比
 
 

 

MicroWriter MLTM是款設(shè)計(jì)的激光直寫光刻系統(tǒng)，不僅具有無掩模板直寫系統(tǒng)的靈活性，還擁有高書寫速度和低成本的點(diǎn)。15個(gè)藍(lán)光激光頭可以在電腦控制下進(jìn)行平行工作對(duì)基片上無需高分辨率的部分進(jìn)行高速書寫曝光，之后自動(dòng)切換高分辨激光，并對(duì)需要高分辨的細(xì)節(jié)進(jìn)行加工。這樣的設(shè)計(jì)在加工速度和分辨率之間取得了的平衡，并通過軟件改變曝光圖案設(shè)計(jì)完整保證了其靈活性。

 

 
內(nèi)置自動(dòng)對(duì)焦系統(tǒng)通過調(diào)節(jié)基片臺(tái)在Z方向的位置，對(duì)基片上的紅色激光斑進(jìn)行自動(dòng)對(duì)焦。只需單擊軟件上的對(duì)焦鍵就能完成對(duì)新放入的基片對(duì)焦。與些其他自動(dòng)對(duì)焦系統(tǒng)對(duì)基片zui小尺寸有要求不同，MicroWriter MLTM的自動(dòng)對(duì)焦可以用到小的樣品上，非常適用于對(duì)單個(gè)壓模的書寫。

對(duì)于表面不平的基片，可以在曝光之前對(duì)其表面測(cè)繪，之后進(jìn)行曝光的同時(shí)中可以自動(dòng)校正對(duì)焦。
 


確切的書寫速度取決于曝光圖案。大部分研發(fā)用圖案是由大面積區(qū)域（線、帶、塊）和少量的細(xì)小尺寸結(jié)構(gòu)組成的。MicroWriter MLTM非常適用于這類應(yīng)用。在這種情況下，使用“turbo”模式，通過自動(dòng)結(jié)合高速平行書寫和高分辨書寫，可以的得到180mm2/min的有效書寫速度。對(duì)于需要進(jìn)行大面積細(xì)小結(jié)構(gòu)書寫的基片，曝光時(shí)間會(huì)相應(yīng)增長(zhǎng)。
 

 



zui大可以放入230mm直徑基片，可以保證200mm x 200mm范圍內(nèi)的準(zhǔn)確曝光。zui小基片尺寸為 1mm2?；烧婵諍A從底部固定，zui大基片厚度為15mm。
 

基本配置包括個(gè)1μm分辨率的激光頭和15個(gè)5μm分辨率的激光頭。個(gè)0.6μm分辨率的激光頭可以作為選件添加（OPT-HIRES）。上為分辨率測(cè)試結(jié)構(gòu)圖。單臂結(jié)構(gòu)在半徑中點(diǎn)以外被區(qū)分出來，4μm內(nèi)包括1μm臂寬和2μm的周期。
 
 
具有不同曝光性質(zhì)的多組曝光任務(wù)可以被結(jié)合起來。例如，用1μm激光得到條微小的微米線，再用5μm激光得到大面積連接片并使其連接到微米線上。：光學(xué)顯微圖（左）和掃描激光顯微圖（右）顯示通過兩個(gè)曝光任務(wù)（下圖）得到的微米線連接大尺寸連接片的圖形。兩個(gè)圖片都是通過MicroWriter MLTM內(nèi)置顯微鏡得到。
 
 
 
 
MicroWriter MLTM內(nèi)置的Clewin 4掩模板設(shè)計(jì)軟件（見圖11），可以用于設(shè)計(jì)多層掩模板文件，同時(shí)可以讀取多種標(biāo)準(zhǔn)圖形格式（DXF, CIF, GDSII, Gerber）的設(shè)計(jì)文件。基片設(shè)計(jì)可以做步進(jìn)模擬，比如設(shè)計(jì)個(gè)單圖案然后在整個(gè)基片范圍內(nèi)重復(fù)運(yùn)用，或者對(duì)整個(gè)基片進(jìn)行整體設(shè)計(jì)，以便減少拼接誤差。與電子束刻蝕系統(tǒng)不同，MicroWriter MLTM不存在書寫范圍限制（取決于基片尺寸）。為了簡(jiǎn)化掩模板設(shè)計(jì)，MicroWriter MLTM可以直接讀取.TIFF,.BMP等圖片格式。
 
 
大多數(shù)用電子束刻蝕制造的器件只有很小的部分結(jié)構(gòu)需要用到電子束刻蝕的高分辨率，而大部分曝光時(shí)間都浪費(fèi)在了如電連接等大面積結(jié)構(gòu)的生成上。MicroWriter MLTM可以被用在混合模式刻蝕工藝上：只用費(fèi)用昂貴、速度緩慢的電子束刻蝕加工zui細(xì)小的結(jié)構(gòu)，用成本低廉的MicroWriter MLTM加工大面積部分。MicroWriter MLTM進(jìn)的對(duì)準(zhǔn)機(jī)制可以使兩部工序*結(jié)合。因此MicroWriter MLTM也適用于已經(jīng)擁有電子束刻蝕的實(shí)驗(yàn)環(huán)境。
 
  • 帶有19英寸支架高速控制器的XYZ三軸電機(jī)
  • 200mm基片臺(tái)，帶有真空夾和真空泵
  • 電子角度修正
  • 1組1μm分辨率405nm激光直寫頭
  • 15組5μm分辨率405nm激光直寫頭套紅光照明對(duì)準(zhǔn)相機(jī)
  • 套鏡內(nèi)帶有光學(xué)反射探測(cè)器的激光掃描顯微鏡
  • 套半導(dǎo)體紅光激光自動(dòng)對(duì)焦系統(tǒng)
  • 自動(dòng)校正軟件和針孔傳動(dòng)探測(cè)器
  • 溫度穩(wěn)定環(huán)境制備艙
  • 被動(dòng)式壓縮空氣減震系統(tǒng)
  • 64-bit Winows系統(tǒng)電腦，19”顯示器 ，基于Windows系統(tǒng)的控制軟件

  • 電子/半導(dǎo)體器件（Microelectronic/Semiconductor Devices）
  • 微/納電機(jī)系統(tǒng) （MEMS/NEMS）
  • 自旋電子學(xué) （Spintronics）
  • 傳感器 （Sensors）
  • 微流控 （Microfluidics）
  • 材料科學(xué) （Material Science）
  • 生物實(shí)驗(yàn)室芯片（Biological lab-on-a-chip）
  • 光子學(xué)（Photonics）
帶有
 
 
 



MicroWriter MLTM是款設(shè)計(jì)的激光直寫光刻系統(tǒng)，不僅具有無掩模板直寫系統(tǒng)的靈活性，還擁有高書寫速度和低成本的點(diǎn)。15個(gè)藍(lán)光激光頭可以在電腦控制下進(jìn)行平行工作對(duì)基片上無需高分辨率的部分進(jìn)行高速書寫曝光，之后自動(dòng)切換高分辨激光，并對(duì)需要高分辨的細(xì)節(jié)進(jìn)行加工。這樣的設(shè)計(jì)在加工速度和分辨率之間取得了的平衡，并通過軟件改變曝光圖案設(shè)計(jì)完整保證了其靈活性。
  • 通過15個(gè)激光同時(shí)平行工作，書寫速度達(dá)180min/min
  • 高達(dá)600nm分辨率
  • 樣品尺寸從1mm 到230 mm
  • 對(duì)表面不平樣品自動(dòng)對(duì)焦補(bǔ)償
  • 占地面積小
  • 高性價(jià)比

 
MicroWriter MLTM是款設(shè)計(jì)的激光直寫光刻系統(tǒng)，不僅具有無掩模板直寫系統(tǒng)的靈活性，還擁有高書寫速度和低成本的點(diǎn)。15個(gè)藍(lán)光激光頭可以在電腦控制下進(jìn)行平行工作對(duì)基片上無需高分辨率的部分進(jìn)行高速書寫曝光，之后自動(dòng)切換高分辨激光，并對(duì)需要高分辨的細(xì)節(jié)進(jìn)行加工。這樣的設(shè)計(jì)在加工速度和分辨率之間取得了的平衡，并通過軟件改變曝光圖案設(shè)計(jì)完整保證了其靈活性。

 
內(nèi)置自動(dòng)對(duì)焦系統(tǒng)通過調(diào)節(jié)基片臺(tái)在Z方向的位置，對(duì)基片上的紅色激光斑進(jìn)行自動(dòng)對(duì)焦。只需單擊軟件上的對(duì)焦鍵就能完成對(duì)新放入的基片對(duì)焦。與些其他自動(dòng)對(duì)焦系統(tǒng)對(duì)基片zui小尺寸有要求不同，MicroWriter MLTM的自動(dòng)對(duì)焦可以用到小的樣品上，非常適用于對(duì)單個(gè)壓模的書寫。

對(duì)于表面不平的基片，可以在曝光之前對(duì)其表面測(cè)繪，之后進(jìn)行曝光的同時(shí)中可以自動(dòng)校正對(duì)焦。
 


確切的書寫速度取決于曝光圖案。大部分研發(fā)用圖案是由大面積區(qū)域（線、帶、塊）和少量的細(xì)小尺寸結(jié)構(gòu)組成的。MicroWriter MLTM非常適用于這類應(yīng)用。在這種情況下，使用“turbo”模式，通過自動(dòng)結(jié)合高速平行書寫和高分辨書寫，可以的得到180mm2/min的有效書寫速度。對(duì)于需要進(jìn)行大面積細(xì)小結(jié)構(gòu)書寫的基片，曝光時(shí)間會(huì)相應(yīng)增長(zhǎng)。

 



zui大可以放入230mm直徑基片，可以保證200mm x 200mm范圍內(nèi)的準(zhǔn)確曝光。zui小基片尺寸為 1mm2?；烧婵諍A從底部固定，zui大基片厚度為15mm。

基本配置包括個(gè)1μm分辨率的激光頭和15個(gè)5μm分辨率的激光頭。個(gè)0.6μm分辨率的激光頭可以作為選件添加（OPT-HIRES）。上為分辨率測(cè)試結(jié)構(gòu)圖。單臂結(jié)構(gòu)在半徑中點(diǎn)以外被區(qū)分出來，4μm內(nèi)包括1μm臂寬和2μm的周期。
具有不同曝光性質(zhì)的多組曝光任務(wù)可以被結(jié)合起來。例如，用1μm激光得到條微小的微米線，再用5μm激光得到大面積連接片并使其連接到微米線上。：光學(xué)顯微圖（左）和掃描激光顯微圖（右）顯示通過兩個(gè)曝光任務(wù)（下圖）得到的微米線連接大尺寸連接片的圖形。兩個(gè)圖片都是通過MicroWriter MLTM內(nèi)置顯微鏡得到。
MicroWriter MLTM內(nèi)置的Clewin 4掩模板設(shè)計(jì)軟件（見圖11），可以用于設(shè)計(jì)多層掩模板文件，同時(shí)可以讀取多種標(biāo)準(zhǔn)圖形格式（DXF, CIF, GDSII, Gerber）的設(shè)計(jì)文件?；O(shè)計(jì)可以做步進(jìn)模擬，比如設(shè)計(jì)個(gè)單圖案然后在整個(gè)基片范圍內(nèi)重復(fù)運(yùn)用，或者對(duì)整個(gè)基片進(jìn)行整體設(shè)計(jì)，以便減少拼接誤差。與電子束刻蝕系統(tǒng)不同，MicroWriter MLTM不存在書寫范圍限制（取決于基片尺寸）。為了簡(jiǎn)化掩模板設(shè)計(jì)，MicroWriter MLTM可以直接讀取.TIFF,.BMP等圖片格式。
大多數(shù)用電子束刻蝕制造的器件只有很小的部分結(jié)構(gòu)需要用到電子束刻蝕的高分辨率，而大部分曝光時(shí)間都浪費(fèi)在了如電連接等大面積結(jié)構(gòu)的生成上。MicroWriter MLTM可以被用在混合模式刻蝕工藝上：只用費(fèi)用昂貴、速度緩慢的電子束刻蝕加工zui細(xì)小的結(jié)構(gòu)，用成本低廉的MicroWriter MLTM加工大面積部分。MicroWriter MLTM進(jìn)的對(duì)準(zhǔn)機(jī)制可以使兩部工序*結(jié)合。因此MicroWriter MLTM也適用于已經(jīng)擁有電子束刻蝕的實(shí)驗(yàn)環(huán)境。
  • 帶有19英寸支架高速控制器的XYZ三軸電機(jī)
  • 200mm基片臺(tái)，帶有真空夾和真空泵
  • 電子角度修正
  • 1組1μm分辨率405nm激光直寫頭
  • 15組5μm分辨率405nm激光直寫頭套紅光照明對(duì)準(zhǔn)相機(jī)
  • 套鏡內(nèi)帶有光學(xué)反射探測(cè)器的激光掃描顯微鏡
  • 套半導(dǎo)體紅光激光自動(dòng)對(duì)焦系統(tǒng)
  • 自動(dòng)校正軟件和針孔傳動(dòng)探測(cè)器
  • 溫度穩(wěn)定環(huán)境制備艙
  • 被動(dòng)式壓縮空氣減震系統(tǒng)
  • 64-bit Winows系統(tǒng)電腦，19”顯示器 ，基于Windows系統(tǒng)的控制軟件
  • 電子/半導(dǎo)體器件（Microelectronic/Semiconductor Devices）
  • 微/納電機(jī)系統(tǒng) （MEMS/NEMS）
  • 自旋電子學(xué) （Spintronics）
  • 傳感器 （Sensors）
  • 微流控 （Microfluidics）
  • 材料科學(xué) （Material Science）
  • 生物實(shí)驗(yàn)室芯片（Biological lab-on-a-chip）
  • 光子學(xué)（Photonics）
帶有
 

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