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邁可諾技術(shù)有限公司

主營產(chǎn)品: 美國Laurell勻膠機,WS1000濕法刻蝕機,Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機,NOVASCAN紫外臭氧清洗機

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勻膠機/勻膠旋涂儀

濕法刻蝕顯影清洗系統(tǒng)

掩膜曝光光刻機

狹縫涂布儀

烤膠機/熱板

快速退火爐

納米壓印光刻機

紫外固化機/紫外固化箱

紫外臭氧清洗機

等離子清洗機

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超聲波清洗機

原子層沉積系統(tǒng)

光學(xué)膜厚儀

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手持式表面分析儀

接觸角測角儀

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注射泵

干冰清洗機

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韓國波導(dǎo)樹脂

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光學(xué)試劑

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    紫外交聯(lián)儀

    膜厚監(jiān)測儀

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    分光光度計

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    密度測試儀

    臨界點干燥儀

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    太陽光模擬器

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    Norland膠水

    真空回流焊爐

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    電鏡耗材

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    有機光伏材料

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    Rondol擠壓機

    切割設(shè)備

    超聲波細(xì)胞粉碎機

    低溫水循環(huán)

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    公司信息

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    改善旋轉(zhuǎn)涂層、優(yōu)化實驗過程

    閱讀:186 發(fā)布時間:2020/11/25

    如何改善我們的旋轉(zhuǎn)涂層?

    有三個建議可以幫助您改善旋涂技術(shù)和終涂層質(zhì)量。

    01 嘗試動態(tài)分配

    通過將化學(xué)物質(zhì)動態(tài)分配到旋轉(zhuǎn)的基材上,可提高涂層的質(zhì)量和可重復(fù)性。

    02 使用注射器適配器

    使用注射器適配器提高手動分配的準(zhǔn)確性。

    03 準(zhǔn)確的將基材放在托盤上

    偏心的基材會引起振動,影響涂層質(zhì)量,用晶圓對準(zhǔn)器以及用于方形和矩形基材的嵌入式托盤方案。

    ? 如何進行故障排除,優(yōu)化實驗過程?

    01清潔基材

    完整的清潔過程應(yīng)解決所有形式的污染。

    02顆粒污染

    我們的勻膠機旨在*地減少顆粒的產(chǎn)生。

    03化學(xué)污染

    殘留在晶圓上的化學(xué)污染會影響旋涂工藝,顯示了由看不見的污染點產(chǎn)生的涂層中的空隙。

    04排氣-旋涂

    對于簡單的旋涂程序,排氣可將腔室內(nèi)的化學(xué)蒸汽帶走。我們的勻膠機有多種選配件,可滿足更苛刻的要求。

    05排氣-蝕刻,顯影和清潔

    在EDC系統(tǒng)進行水處理時,正確的排氣量更為重要。所有可能的輸入,化學(xué)試劑,去離子水,干燥氣體必須與足夠的廢氣保持平衡。這樣可防止在處理室中產(chǎn)生超壓環(huán)境,并迅速清除多余的水分。

    06清潔您的勻膠機

    如果希望獲得Z佳的旋涂效果,應(yīng)在每次操作結(jié)束時對勻膠機進行清潔。




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