 |
邁可諾技術(shù)有限公司
主營產(chǎn)品： 美國Laurell勻膠機(jī),WS1000濕法刻蝕機(jī),Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機(jī),NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī) |
12
聯(lián)系電話
|
邁可諾技術(shù)有限公司
主營產(chǎn)品： 美國Laurell勻膠機(jī),WS1000濕法刻蝕機(jī),Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機(jī),NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī) |
聯(lián)系電話
| 產(chǎn)品圖片 | 產(chǎn)品名稱 | |||
|---|---|---|---|---|
|
E3100Quorum臨界點(diǎn)干燥儀 簡單介紹：Quorum制造了一系列臨界點(diǎn)干燥機(jī)，以滿足電子顯微鏡（EM）和其他應(yīng)用的需求。 Quorum臨界點(diǎn)干燥儀（有時稱為超臨界干燥）是一種在掃描電子顯微鏡（SEM）中進(jìn)行檢查之前對生物組織進(jìn)行脫水的既定方法。這項(xiàng)技術(shù)是由Polaron（Quorum的者）于1971年*引入的，用于制備SEM標(biāo)本，而Quorum E3100 臨界點(diǎn)干燥機(jī)仍然體現(xiàn)了包括水平腔室在內(nèi)的原始設(shè)計(jì)理念 。 產(chǎn)品型號：E3100 所在地：北京市 更新時間：2024-05-17 |
參考價:面議 詢價留言 | ||
|
K1050X射頻等離子體蝕刻機(jī) 簡單介紹：射頻等離子體蝕刻機(jī)Quorum K1050X可以用于使用反應(yīng)氣體（例如CF 4） 去除硅層，以及用于使用氧氣去除光刻膠。 等離子灰化是指使用氧氣或空氣對有機(jī)材料進(jìn)行可控的低溫去除，其廣泛應(yīng)用于研究和質(zhì)量控制領(lǐng)域。RF等離子還可用于塑料和聚合物的表面改性-以及清潔TEM和SEM樣品以及樣品支架。 產(chǎn)品型號：K1050X 所在地：北京市 更新時間：2024-05-17 |
參考價:面議 詢價留言 | ||
|
GloQubePlusTEM清洗機(jī) 簡單介紹：TEM清洗機(jī)GloQube®Plus是一種經(jīng)濟(jì)高效，緊湊且易于使用的輝光放電系統(tǒng)，旨在滿足使用TEM的實(shí)驗(yàn)室的需求。GloQube®Plus的主要應(yīng)用是修改TEM網(wǎng)格的表面，使其滿足成功成像的要求。 產(chǎn)品型號：GloQubePlus 所在地：北京市 更新時間：2024-05-17 |
參考價:面議 詢價留言 | ||
