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邁可諾技術(shù)有限公司
主營(yíng)產(chǎn)品： 美國(guó)Laurell勻膠機(jī),WS1000濕法刻蝕機(jī),Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機(jī),NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī) |
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邁可諾技術(shù)有限公司
主營(yíng)產(chǎn)品： 美國(guó)Laurell勻膠機(jī),WS1000濕法刻蝕機(jī),Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機(jī),NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī) |
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| 產(chǎn)品圖片 | 產(chǎn)品名稱 | |||
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SEM 燈絲電鏡耗材 簡(jiǎn)單介紹：【產(chǎn)品詳情】 Agar鎢燈絲在采用高延展性的鎢材料，在嚴(yán)格精密的生產(chǎn)工藝下生產(chǎn)。 · 鎢燈絲有燈絲直徑0.12mm及0.15mm兩種規(guī)格，0.15mm直徑規(guī)格鎢燈絲使用壽命顯著長(zhǎng)于0.12mm規(guī)格。 · 此鎢燈絲適用于Zeiss蔡司鎢燈絲掃描電鏡，規(guī)格為一盒10根燈絲。 產(chǎn)品型號(hào)：SEM 燈絲 所在地：武漢市 更新時(shí)間：2024-05-17 |
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PTU021350PTFE非層壓膜過(guò)濾器 簡(jiǎn)單介紹：我們無(wú)支撐的疏水性PTFE非層壓膜過(guò)濾器非常適合滅菌和排氣應(yīng)用，涉及空氣，氣體和與大多數(shù)其他過(guò)濾器不兼容的溶劑/酸。 產(chǎn)品型號(hào)：PTU021350 所在地：北京市 更新時(shí)間：2024-05-17 |
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PTFE0113100PTFE層壓膜過(guò)濾器 簡(jiǎn)單介紹：PTFE膜具有親水性，疏水性，非層壓和層壓選項(xiàng)，適用于各種應(yīng)用和溫度。 PTFE層壓膜過(guò)濾器具有標(biāo)準(zhǔn)的非層壓疏水膜的質(zhì)量，并具有背襯層的額外好處，使它們更厚且更易于處理。 產(chǎn)品型號(hào)：PTFE0113100 所在地：北京市 更新時(shí)間：2024-05-17 |
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ISA-WIP500溫等靜壓機(jī) Warm Isostatic Press 簡(jiǎn)單介紹：溫等靜壓機(jī) Warm Isostatic Press商品概要：溫度的物性變化所需產(chǎn)品在目標(biāo)溫度下作壓制/高壓處理的設(shè)備，使用流體（水）溫度大可用90℃，以上溫度可用密度變化小的油，主要用于電氣，電子材料的層壓工藝。 產(chǎn)品型號(hào)：ISA-WIP500 所在地：北京市 更新時(shí)間：2024-05-17 |
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ISA-CIP500冷等靜壓機(jī)Cold Lsostatic Press 簡(jiǎn)單介紹：冷等靜壓機(jī)Cold Lsostatic Press商品說(shuō)明：它被稱為靜水壓力（冷等靜壓）和CIP處理，并被廣泛用于需要等方向壓縮成型的產(chǎn)品- 粉體成型（陶瓷，高強(qiáng)度復(fù)合材料）。該產(chǎn)品在常溫下用于成型目的，而不需要根據(jù)溫度改變的物理性能。 產(chǎn)品型號(hào)：ISA-CIP500 所在地：北京市 更新時(shí)間：2024-05-17 |
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GM1010/GM1020/GM1075EM Resist SU-8負(fù)性抗蝕劑 簡(jiǎn)單介紹：EM Resist SU-8負(fù)性抗蝕劑產(chǎn)品，非常適合半導(dǎo)體應(yīng)用。我們的產(chǎn)品有各種形式和厚度范圍。 典型的SU-8過(guò)程包括以下步驟： 基板準(zhǔn)備 旋涂 松弛時(shí)間以提高表面均勻度 軟烤 曝光后烘烤 發(fā)展歷程 沖洗并干燥 可選硬烤 產(chǎn)品型號(hào)：GM1010/GM1020/GM1075 所在地：北京市 更新時(shí)間：2024-05-17 |
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HT20pUNIXX系列手動(dòng)控制加熱臺(tái) 簡(jiǎn)單介紹：UNIXX系列手動(dòng)控制加熱臺(tái)帶有氣動(dòng)升降銷的烘焙模塊配有一個(gè)手動(dòng)PID控制器和計(jì)時(shí)器開關(guān)。 經(jīng)過(guò)微處理（PID）控制器用于高測(cè)量溫度控制準(zhǔn)確性。 確定過(guò)程的設(shè)定值和參數(shù)用5場(chǎng)塑料薄膜鍵盤調(diào)節(jié)?？勺杂删幊痰亩〞r(shí)開關(guān)有兩個(gè)可調(diào)派生計(jì)時(shí)器和兩個(gè)省略計(jì)時(shí)器。 與各種參數(shù)的可能性，兩個(gè)輸出觸點(diǎn)和兩個(gè)切換輸入將允許使用任何一種應(yīng)用程序可以使用的。 產(chǎn)品型號(hào)：HT20p 所在地：北京市 更新時(shí)間：2024-05-17 |
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AvCarb碳紙MGL190 MGL370 簡(jiǎn)單介紹：AvCarb碳紙MGL190 MGL370，MGL280是適用于燃料電池和電解槽應(yīng)用的優(yōu)質(zhì)復(fù) 寫紙。 新產(chǎn)品展示了優(yōu)于行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)產(chǎn)品的優(yōu)勢(shì)，憑借可比較的性能和性能數(shù)據(jù)， MGL 產(chǎn)品可與其他行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)復(fù)寫紙互換使用。 產(chǎn)品型號(hào)： 所在地：北京市 更新時(shí)間：2024-05-17 |
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VSU45真空回流焊爐 簡(jiǎn)單介紹：可編程真空回流焊爐和釬焊爐，加熱面積為420x420mm 紅外燈交叉放置在工具板下方和蓋子中。尺寸為420x420mm的方形工具板可以用任何合適的材料制成，也可以在其中使用用于固定裝置的定制開口。通過(guò)設(shè)計(jì)，可將模具板及其上的零件一起裝入腔室內(nèi)-適用于批量生產(chǎn)。通過(guò)從腔室底部吹向工具板的氮?dú)饬鬟M(jìn)行工藝?yán)鋮s。 產(chǎn)品型號(hào)：VSU45 所在地：北京市 更新時(shí)間：2024-05-17 |
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VSU28真空回流焊爐 簡(jiǎn)單介紹：可編程真空回流焊爐和釬焊爐，加熱面積為260x210mm 置于工具板下方（或可選地，也位于上方）的紅外燈將其加熱。尺寸為260x210mm的矩形工具板可以用任何合適的材料制成，也可以在其中使用用于固定裝置的定制開口。通過(guò)設(shè)計(jì)，可將模具板及其上的零件一起裝入腔室內(nèi)-適用于批量生產(chǎn)。通過(guò)從腔室底部吹向工具板的氮?dú)饬鬟M(jìn)行工藝?yán)鋮s。腔室本身是水冷的。如果未與安裝機(jī)架MR23CP一起訂購(gòu)，則需要外部冷 產(chǎn)品型號(hào)：VSU28 所在地：北京市 更新時(shí)間：2024-05-17 |
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VSU20真空回流焊爐 簡(jiǎn)單介紹：可編程真空回流焊爐，加熱區(qū)域直徑為200mm 真空回流爐配備有一個(gè)由實(shí)心鋁制成的熱板，上面涂有陶瓷。另一個(gè)水冷板安裝在熱板下方。在冷卻時(shí)，將冷板抬起并壓在熱板上，從而迅速冷卻。此功能還可以在真空下進(jìn)行冷卻。 產(chǎn)品型號(hào)：VSU20 所在地：北京市 更新時(shí)間：2024-05-17 |
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VSU12真空回流焊爐12 簡(jiǎn)單介紹：真空回流焊爐12放置在工具板上的紅外燈將其加熱。該工具板為正方形,尺寸為100x100mm,可以用任何合適的材料制成。也可以預(yù)制帶有定制開口的內(nèi)部固定裝置。可以將工具板及其上的零件一起更換。這樣可以進(jìn)行批量生產(chǎn)。氮?dú)饬鲝那皇业撞看迪蚬ぞ甙?從而將其冷卻。腔室本身是空氣冷卻的。 產(chǎn)品型號(hào)：VSU12 所在地：北京市 更新時(shí)間：2024-05-17 |
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MPEM-1600掩膜曝光光刻機(jī)Mask Aligner 簡(jiǎn)單介紹：MYCRO*荷蘭光刻機(jī)（掩膜曝光光刻機(jī)Mask Aligner ），是的光刻系統(tǒng)，為半導(dǎo)體制造和科研領(lǐng)域提供品質(zhì)優(yōu)良穩(wěn)定的全波段紫外光刻機(jī)系統(tǒng)，廣泛的應(yīng)用于半導(dǎo)體光刻工藝制程、微機(jī)電MEMS、二極管芯片、發(fā)光二極體（LED）芯片制造、生物器件、納米科技、顯示面板LCD、光電器件、奈米壓印以及電子封裝等諸多領(lǐng)域。 產(chǎn)品型號(hào)：MPEM-1600 所在地：北京市 更新時(shí)間：2024-05-17 |
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MEMA-800光刻機(jī)Mask Aligner 簡(jiǎn)單介紹：MYCRO*荷蘭光刻機(jī)（光刻機(jī)Mask Aligner），是的光刻系統(tǒng)，為半導(dǎo)體制造和科研領(lǐng)域提供品質(zhì)優(yōu)良穩(wěn)定的全波段紫外光刻機(jī)系統(tǒng)，廣泛的應(yīng)用于半導(dǎo)體光刻工藝制程、微機(jī)電MEMS、二極管芯片、發(fā)光二極體（LED）芯片制造、生物器件、納米科技、顯示面板LCD、光電器件、奈米壓印以及電子封裝等諸多領(lǐng)域。 產(chǎn)品型號(hào)：MEMA-800 所在地：北京市 更新時(shí)間：2024-05-17 |
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MSMA-1200M光刻機(jī)Mask MSMA 簡(jiǎn)單介紹：MYCRO*荷蘭光刻機(jī)（光刻機(jī)Mask MSMA），是的光刻系統(tǒng)，為半導(dǎo)體制造和科研領(lǐng)域提供品質(zhì)優(yōu)良穩(wěn)定的全波段紫外光刻機(jī)系統(tǒng)，廣泛的應(yīng)用于半導(dǎo)體光刻工藝制程、微機(jī)電MEMS、二極管芯片、發(fā)光二極體（LED）芯片制造、生物器件、納米科技、顯示面板LCD、光電器件、奈米壓印以及電子封裝等諸多領(lǐng)域?？蛻羧缑绹?guó)航空航天公司、飛利浦、摩托羅拉、惠普、牛津大學(xué)、劍橋大學(xué)、斯坦福大學(xué)、倫敦大學(xué)等等。 產(chǎn)品型號(hào)：MSMA-1200M 所在地：北京市 更新時(shí)間：2024-05-17 |
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MMA16光刻機(jī)Aligner MMA 簡(jiǎn)單介紹：MYCRO*荷蘭（光刻機(jī)Aligner MMA16），是的光刻系統(tǒng)，為半導(dǎo)體制造和科研領(lǐng)域提供品質(zhì)優(yōu)良穩(wěn)定的全波段紫外光刻機(jī)系統(tǒng)，廣泛的應(yīng)用于半導(dǎo)體光刻工藝制程、微機(jī)電MEMS、二極管芯片、發(fā)光二極體（LED）芯片制造、生物器件、納米科技、顯示面板LCD、光電器件、奈米壓印以及電子封裝等諸多領(lǐng)域。客戶如美國(guó)航空航天公司、飛利浦、摩托羅拉、惠普、牛津大學(xué)、劍橋大學(xué)、斯坦福大學(xué)、倫敦 產(chǎn)品型號(hào)：MMA16 所在地：北京市 更新時(shí)間：2024-05-17 |
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MR200精密金剛石晶圓劃片機(jī) 簡(jiǎn)單介紹：MYCRO*MR200手動(dòng)精密金剛石晶圓劃片機(jī)準(zhǔn)確切割結(jié)構(gòu)化硅晶片，是理想工具-半導(dǎo)體技術(shù)的制造。MR 200的設(shè)置和設(shè)備可為定義的結(jié)構(gòu)化硅晶片切割提供高精度劃線。MR 200是*的工具，特別是對(duì)于半導(dǎo)體技術(shù)中的REM制造。 MR200還適用于少量芯片的單芯片化，例如在實(shí)驗(yàn)室中使用。 產(chǎn)品型號(hào)：MR200 所在地：北京市 更新時(shí)間：2024-05-17 |
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EC200-DUO控制器preeflow®雙組份微量點(diǎn)膠機(jī) 簡(jiǎn)單介紹：preeflow®雙組份微量點(diǎn)膠機(jī) 確保了小劑量液體準(zhǔn)確的容積式輸送。 經(jīng)過(guò)在流體定量輸送方面20年的經(jīng)驗(yàn)積累 preeflow® 品牌于2008年誕生。依托德國(guó)制造的高質(zhì)量，preeflow®系列產(chǎn)品世界。 小巧、準(zhǔn)確、經(jīng)濟(jì)一直是我們做得更好的動(dòng)力與信心。 產(chǎn)品型號(hào)：EC200-DUO控制器 所在地：北京市 更新時(shí)間：2024-05-17 |
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EC200-K/EC200控制器preeflow®單組份微量點(diǎn)膠機(jī) 簡(jiǎn)單介紹：preeflow®單組份微量點(diǎn)膠機(jī) 確保了小劑量液體準(zhǔn)確的容積式輸送。 經(jīng)過(guò)在流體定量輸送方面20年的經(jīng)驗(yàn)積累 preeflow® 品牌于2008年誕生。依托德國(guó)制造的高質(zhì)量，preeflow®系列產(chǎn)品世界。 小巧、準(zhǔn)確、經(jīng)濟(jì)一直是我們做得更好的動(dòng)力與信心。 產(chǎn)品型號(hào)：EC200-K/EC200控制器 所在地：北京市 更新時(shí)間：2024-05-17 |
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高折射率膠粘劑 簡(jiǎn)單介紹：高折射率粘合劑，用于粘合玻璃，塑料和可進(jìn)行UV固化和/或熱固化的金屬。 產(chǎn)品型號(hào)： 所在地：北京市 更新時(shí)間：2024-05-17 |
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