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岱美儀器技術(shù)服務(wù)(上海)有限公司

  • EVG620 NT-掩模對準(zhǔn)光刻機(jī)系統(tǒng) 參考價: 面議

    參考價: 面議 型號:Dymek岱美儀器
    EVG620 NT-掩模對準(zhǔn)光刻機(jī)系統(tǒng)EVG ® 620 NT提供國家的本領(lǐng)域掩模對準(zhǔn)技術(shù)在小化的占位面積,支持高達(dá)150毫米晶圓尺寸。
    型號: Dymek岱美儀器 品牌:EVG所在地:上海市 對比
    自動掩模對準(zhǔn)系統(tǒng)對準(zhǔn)系統(tǒng)光刻機(jī)光刻機(jī)價格掩模對準(zhǔn)曝光機(jī)
    2025/4/8 14:29:106441
  • Dymek岱美儀器量產(chǎn)型光刻機(jī)系統(tǒng) 參考價: 面議

    參考價: 面議 型號:HERCULES
    光刻機(jī)Track系統(tǒng)通過集成的生產(chǎn)系統(tǒng)和結(jié)合掩模對準(zhǔn)和曝光以及集成的預(yù)處理和后處理的高度自動化功能,完善了EVG光刻機(jī)產(chǎn)品系列。HERCULES光刻機(jī)Track...
    型號: HERCULES 品牌:EVG所在地:上海市 對比
    HERCULESEVG納米壓印光刻機(jī)
    2024/11/9 15:09:324403
  • Dymek岱美中國儀器自動掩模對準(zhǔn)系統(tǒng) 參考價: 面議

    參考價: 面議 型號:IQ Aligner NT
    ?新型IQ Aligner NT具有高強(qiáng)度和高均勻度的曝光光學(xué)器件,新的晶圓處理硬件,可實(shí)現(xiàn)全局多點(diǎn)對準(zhǔn)的200mm和300mm晶圓全覆蓋范圍以及優(yōu)化的工具軟件...
    型號: IQ Aligne... 品牌:EVG所在地:上海市 對比
    光刻機(jī)光刻掩膜掩模曝光
    2024/11/9 16:20:012106
  • EVG610-單面、雙面光刻系統(tǒng) 參考價: 面議

    參考價: 面議 型號:
    EVG610-單面、雙面光刻系統(tǒng) EVG光刻機(jī)EVG®610是一款緊湊型多功能研發(fā)系統(tǒng),可處理零碎片和大200 mm的晶圓。
    型號: 品牌:EVG所在地:上海市 對比
    自動掩模對準(zhǔn)系統(tǒng)對準(zhǔn)系統(tǒng)光刻機(jī)光刻機(jī)價格
    2024/11/9 13:15:232884
  • EVG6200 NT掩模對準(zhǔn)光刻系統(tǒng) 參考價: 面議

    參考價: 面議 型號:
    EVG6200 NT掩模對準(zhǔn)光刻系統(tǒng) 特色:EVG ® 6200 NT掩模對準(zhǔn)器為光學(xué)雙面光刻的多功能工具和晶片尺寸高達(dá)200毫米。
    型號: 品牌:EVG所在地:上海市 對比
    自動掩模對準(zhǔn)系統(tǒng)對準(zhǔn)系統(tǒng)光刻機(jī)光刻機(jī)價格納米壓印機(jī)
    2024/11/9 13:13:263804
  • IQ Aligner 自動掩模對準(zhǔn)系統(tǒng) 參考價: 面議

    參考價: 面議 型號:
    IQ Aligner 自動掩模對準(zhǔn)系統(tǒng) 用于自動非接觸近距離掩模對準(zhǔn)光刻,進(jìn)行了處理和優(yōu)化,用于晶圓片的尺寸高達(dá)200毫米。
    型號: 品牌:EVG所在地:上海市 對比
    自動掩模對準(zhǔn)系統(tǒng)對準(zhǔn)系統(tǒng)光刻機(jī)光刻機(jī)價格
    2024/11/9 12:34:332717
  • 光刻膠勻膠機(jī) 參考價: 面議

    參考價: 面議 型號:EVG101
    研發(fā)和小規(guī)模生產(chǎn)中的單晶圓光刻膠加工。 EVG101光刻膠勻膠機(jī)在單室設(shè)計(jì)上可以滿足研發(fā)工作,與EVG的自動化系統(tǒng)*兼容。EVG101支持大300 mm的晶圓,...
    型號: EVG101 品牌:所在地:上海市 對比
    勻膠機(jī)勻噴膠機(jī)微流控加工光刻膠加工EVG101
    2024/11/26 17:18:144261
  • EVG單面/雙面掩模對準(zhǔn)光刻機(jī) 參考價: 面議

    參考價: 面議 型號:EVG610
    EVG單面/雙面掩模對準(zhǔn)光刻機(jī)EVG610(單面/雙面掩模對準(zhǔn)光刻機(jī) 微流控 納米壓?。┲С指鞣N標(biāo)準(zhǔn)光刻工藝,如真空,硬,軟接觸和接近式曝光模式,可選擇背部對準(zhǔn)...
    型號: EVG610 品牌:EVG所在地:上海市 對比
    EVG光刻機(jī)微流控EVG微流控芯片接觸式光刻機(jī)
    2024/11/9 12:10:299815

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