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微波等離子化學氣相沉積系統(tǒng)PX 3249
CVD化學氣相沉積裝置PX 2994
CYRANNUS微波等離子化學氣相沉積系統(tǒng)PX 3275
TF-1200-PECVD等離子增強化學氣相沉積系統(tǒng)PX 1924
金屬有機化合物化學氣相沉積鍍膜設備PX 2962
C2GR16-立式氣相沉積爐PX 2792
CVD化學氣相沉積設備PX 3778
FL-800N低溫化學氣相沉積冷卻系統(tǒng)-試驗用冷水機PX 6964
FPSEM-ICP200D等離子體增強化學氣相沉積系統(tǒng)PX 3551
C2GR16-氣相沉積爐PX 2740
CC-200日本ULVAC愛發(fā)科半導體化學氣相沉積設備PX 5075
GS-30-700廣樹CVD化學氣相沉積碳鍍膜機PX 3756
ICP-500D薄膜沉積CVDPX 3335
線列式PECVD高真空等離子體增強化學氣相薄膜沉積系統(tǒng)PX 1950
NPE-3500 PECVD等離子體化學氣相沉積系統(tǒng)PX 3620
ZT-60-15立式化學氣相沉積爐PX 3984
等離子體化學氣相沉積設備PX 2483
轉移多壁碳納米管垂直陣列(化學氣相沉積法)PX 3374
Trion Orion HDCVDTrion Orion HDCVD高密度化學氣相沉積系統(tǒng)PX 3338
TF1200-PECVD型等離子增強化學氣相沉積系統(tǒng)PX 3896
金屬有機化學氣相沉積系統(tǒng)MOVPE設備PX 3249
NPE-4000(ICPA)全自動ICPECVD等離子體化學氣相沉積系統(tǒng)PX 3249
NPE-4000(ICPM)ICPECVD等離子體化學氣相沉積系統(tǒng)PX 3249
NPE-4000(A)全自動PECVD等離子體化學氣相沉積系統(tǒng)PX 3249
NPE-4000(M)PECVD等離子體化學氣相沉積系統(tǒng)PX 3249
NPE-3500 PECVD等離子體化學氣相沉積系統(tǒng)PX 3249
NPE-3000 PECVD等離子體化學氣相沉積系統(tǒng)PX 3249
PE-CVD維意真空等離子增強化學氣相沉積鍍膜設備PX 0
WBMW-QXCJ4任氏巨源實驗室常用微波化學氣相沉積系統(tǒng)PX 0
WBMW-DLZ3巨源實驗室常用微波等離子體化學氣相沉積PX 0
等離子體增強化學氣相沉積鍍膜系統(tǒng)PX 2962
金屬有機化學氣相沉積鍍膜系統(tǒng)(MOCVD)PX 2962
PECVD+RIE等離子體增強化學氣相沉積設備PX 2962
PECVDPX 3778
非標定制熱絲法化學氣相沉積CVD金剛石PX 0
非標定制等離子體增強化學氣相沉積 PECVDPX 0
CY-PECVD50-1200-Q三溫區(qū)PECVD氣相沉積石墨烯制備PX 0
CY-PECVD100-1200-QPECVD氣相沉積PX 0
CY-PECVD100-1200-QCVD化學氣相沉積系統(tǒng)PX 0
CY-PECVD-240T-SS等離子增強化學氣相沉積設備PX 0
薄膜生長設備
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集成電路測試與分選設備
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熱工藝設備/熱處理設備
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日本ULVAC愛發(fā)科半導體化學氣相沉積設備
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金屬有機化學氣相沉積MOCVD
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