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薄膜厚度測量儀主要基于光學(xué)、機(jī)械或電學(xué)原理，來實(shí)現(xiàn)對各種材料表面薄膜厚度的精準(zhǔn)測量。常見的測量方法包括：
1 光學(xué)測量
光學(xué)測量方法多采用干涉法或反射法。干涉法利用光的波動(dòng)性質(zhì)，當(dāng)光波在薄膜的不同界面之間反射時(shí)，會(huì)形成干涉條紋，通過分析條紋的變化，可以算出薄膜的厚度。反射法則是基于光的反射特性，當(dāng)光照射到具有不同折射率的薄膜時(shí)，會(huì)產(chǎn)生反射，通過測量反射光強(qiáng)度的變化，可以推斷出薄膜的厚度。
2 機(jī)械測量
機(jī)械測量方法通常使用探針直接接觸到薄膜表面，利用探針的位移量來計(jì)算薄膜的厚度。這種方法在很多應(yīng)用中非常精準(zhǔn)，但對薄膜的紋理和結(jié)構(gòu)要求較高，部分情況下可能會(huì)損傷膜層。
3 電學(xué)測量
電學(xué)測量方法則通過電容或電阻的變化來獲取薄膜的厚度。這類技術(shù)主要用于極薄的膜層，如納米級別的薄膜，能夠提供足夠的靈敏度和準(zhǔn)確性。
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