手機版
化工儀器網(wǎng)手機版
化工儀器網(wǎng)小程序
官方微信
公眾號：chem17
掃碼關(guān)注視頻號
一體式磁控濺射鍍膜機為高真空多功能三靶位（永磁靶）磁控濺射鍍膜系統(tǒng)，系統(tǒng)可用于開發(fā)納米級的單層及多層功能膜和復(fù)合膜-可鍍金屬、合金、化合物、半導(dǎo)體、陶瓷膜(需配射頻電源)、介質(zhì)復(fù)合膜和其它化學(xué)反應(yīng)膜等。系統(tǒng)主要由濺射室、永磁磁控濺射靶（三個靶）、直流電源、全自動匹配射頻電源、樣品臺、樣品加熱爐、泵抽系統(tǒng)、真空測量系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、電控系統(tǒng)等組成?？蓪崿F(xiàn)自動鍍膜控制。真空室采用臥式前開門結(jié)構(gòu)，有利于靶材更換及裝卸樣品，內(nèi)部裝有便于更換的防污襯板，減少真空室污染，利于整體清潔。鍍膜工藝壓力控制采用電動插板閥+MFC自動控制，保證鍍膜鍍膜工藝具有較高的可靠性、穩(wěn)定性和重復(fù)性。
該系統(tǒng)為單室結(jié)構(gòu)，主要由濺射真空室、磁控濺射靶、自轉(zhuǎn)基片臺、加熱系統(tǒng)、直流電源、射頻電源、工作氣路、真空獲得系統(tǒng)、安裝機臺、真空測量、水冷卻及報警系統(tǒng)和控制系統(tǒng)等部分組成，可用于金屬薄膜、介質(zhì)膜等的制備。
加熱裝置在真空室上法蘭上，對基片托板進行加熱，通過熱電偶控制控溫電源實現(xiàn)閉環(huán)控制，系統(tǒng)由加熱器和1個加熱控溫電源組成，加熱電源配備日本進口控溫表，控溫方式為PID自動控溫及數(shù)字顯示；樣品加熱溫度：室溫～600°C，連續(xù)可調(diào)。
相關(guān)產(chǎn)品
免責(zé)聲明
- 凡本網(wǎng)注明“來源：化工儀器網(wǎng)”的所有作品，均為浙江興旺寶明通網(wǎng)絡(luò)有限公司-化工儀器網(wǎng)合法擁有版權(quán)或有權(quán)使用的作品，未經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)不得轉(zhuǎn)載、摘編或利用其它方式使用上述作品。已經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)使用作品的，應(yīng)在授權(quán)范圍內(nèi)使用，并注明“來源：化工儀器網(wǎng)”。違反上述聲明者，本網(wǎng)將追究其相關(guān)法律責(zé)任。
- 本網(wǎng)轉(zhuǎn)載并注明自其他來源（非化工儀器網(wǎng)）的作品，目的在于傳遞更多信息，并不代表本網(wǎng)贊同其觀點和對其真實性負責(zé)，不承擔(dān)此類作品侵權(quán)行為的直接責(zé)任及連帶責(zé)任。其他媒體、網(wǎng)站或個人從本網(wǎng)轉(zhuǎn)載時，必須保留本網(wǎng)注明的作品第一來源，并自負版權(quán)等法律責(zé)任。
- 如涉及作品內(nèi)容、版權(quán)等問題，請在作品發(fā)表之日起一周內(nèi)與本網(wǎng)聯(lián)系，否則視為放棄相關(guān)權(quán)利。
采購中心