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立式高真空回火爐是一種用于材料科學(xué)領(lǐng)域的工藝試驗(yàn)儀器，由主機(jī)、真空系統(tǒng)、冷風(fēng)系統(tǒng)、充氣系統(tǒng)、氣動(dòng)系統(tǒng)、電氣控制系統(tǒng)和爐外運(yùn)輸車等組成，主要適用于真空淬火和光亮淬火后回火處理以及低溫退火和時(shí)效處理等工藝。
立式高真空回火爐上分別連接有導(dǎo)溫管和降溫管，導(dǎo)溫管連通溫箱，降溫管另一端連接有制冷設(shè)備，其中導(dǎo)溫管和降溫管的管口位置處分別連接有控制其啟閉狀態(tài)的一控制閥和二控制閥，兩控制閥通過控制器進(jìn)行控制，控制器上連接有溫度傳感器和用于接收溫度傳感器的信號(hào)并向控制閥輸出控制信號(hào)的CPU芯片，溫度傳感器檢測(cè)的溫度低于CPU芯片核定溫度范圍，CPU芯片向一控制閥輸出開啟信號(hào)，并向二控制閥輸出關(guān)閉信號(hào)，溫度高于CPU芯片核定溫度范圍，情況則相反，而當(dāng)處于CPU芯片核定溫度范圍內(nèi)，則一控制閥和二控制閥皆處于關(guān)閉狀態(tài)。
分導(dǎo)管的另一端延伸至相對(duì)的面上，其中時(shí)效處理室的頂面上固定有吊勾用以固定分導(dǎo)管。時(shí)效處理室較大，直接通過導(dǎo)溫管和降溫管的管口輸出熱氣和冷氣會(huì)導(dǎo)致時(shí)效處理室內(nèi)部出現(xiàn)溫度不均勻的情況，為盡量降低加工成本解決這一技術(shù)問題，可以在導(dǎo)溫管和降溫管的管口位置處連接分導(dǎo)管，相對(duì)應(yīng)的氣體可以通過分導(dǎo)管上的通孔排入時(shí)效處理室內(nèi)，由此盡量保證氣體輸入時(shí)的影響范圍，盡可能提高時(shí)效處理室內(nèi)的溫度均勻性。
導(dǎo)溫管和降溫管內(nèi)連接有管道風(fēng)機(jī)，在導(dǎo)溫管和降溫管內(nèi)連接上管道風(fēng)機(jī)可以大大加快傳輸時(shí)的速度，提高溫度調(diào)節(jié)的效率，進(jìn)一步優(yōu)化技術(shù)效果，導(dǎo)溫管和降溫管的管口位置處連接有分導(dǎo)管，分導(dǎo)管的另一端呈封閉狀態(tài)，其中分導(dǎo)管的管體上均勻開設(shè)有若干通孔。
希望上述內(nèi)容能夠幫助大家更好的了解本設(shè)備。
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