超純水（UPW）(被廣泛地用于半導(dǎo)體器件生產(chǎn)中所有濕法工藝步驟，包括晶片沖洗和化學(xué)浴中化合物的稀釋。在這些關(guān)鍵步驟中，可能會(huì)吸收來(lái)自化學(xué)浴和沖洗水中的污染物，然后通過(guò)一系列的化學(xué)和電化學(xué)反應(yīng)沉淀到硅表面。在成品的重點(diǎn)區(qū)域中，如果金屬污染物的濃度達(dá)到50 ppq，就會(huì)改變集成電路部件的電氣參數(shù)，導(dǎo)致其無(wú)法通過(guò)后的電氣測(cè)試。因此超純水純度測(cè)定至關(guān)重要。在SEMI F63-0918《半導(dǎo)體加工中超純水使用指南》中，除B（50 ppt）和Ni（3 ppt）外，26 種金屬污染物的目標(biāo)值應(yīng)小于1 ppt。
在此，我們將展示出珀金埃爾默的化學(xué)高分辨多重四極桿ICP-MS 儀器 NexION 5000 獲得的超純水分析結(jié)果。NexION 5000 四組四極桿組成的多重四極桿ICP-MS 質(zhì)譜平臺(tái)，通過(guò)各四極桿的不同質(zhì)量分辨能力和工作模式，結(jié)合碰撞反應(yīng)池技術(shù)，實(shí)現(xiàn)化學(xué)高分辨，獲得干擾消除。
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