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Apreo場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡是研究納米顆粒、催化劑、粉末和納米器件的平臺(tái)，而不會(huì)降低磁性樣品性能。傳統(tǒng)的高分辨率 SEM 透鏡技術(shù)分為兩類(lèi)：磁浸沒(méi)或靜電。FEI 將兩種技術(shù)結(jié)合到一個(gè)儀器中。這樣做所產(chǎn)生的成效遠(yuǎn)遠(yuǎn)超過(guò)任一種鏡筒的個(gè)體性能。兩種技術(shù)均使電子束形成細(xì)小探針，以提高低電壓下的分辨率，并使信號(hào)電子進(jìn)入鏡筒。通過(guò)將磁透鏡和靜電透鏡組合成一個(gè)復(fù)合透鏡，不但提高了分辨率，還增加了*的信號(hào)過(guò)濾選項(xiàng)。靜電-磁復(fù)合末級(jí)透鏡在 1 kV 電壓下的分辨率為 1.0 nm(無(wú)電子束減速或單色器)。
 

Apreo 擁有透鏡內(nèi)背散射探測(cè)器 T1，其位置緊靠樣品以便盡可能多地收集信號(hào)，從而確保在很短的時(shí)間內(nèi)采集數(shù)據(jù)。與其他背散射探測(cè)器不同，這種快速的探測(cè)器始終可保證良好的材料對(duì)比度，在導(dǎo)航時(shí)、傾斜時(shí)或工作距離很短時(shí)也不例外。在敏感樣品上，探測(cè)器的價(jià)值凸現(xiàn)出來(lái)，即使電流低至幾 pA，它也能提供清晰的背散射圖像。復(fù)合末級(jí)透鏡通過(guò)能量過(guò)濾實(shí)現(xiàn)更準(zhǔn)確的材料對(duì)比度以及絕緣樣品的無(wú)電荷成像，進(jìn)一步延伸了 T1 BSE 探測(cè)器的潛在價(jià)值。它還提供了流行選項(xiàng)來(lái)補(bǔ)充其探測(cè)能力，例如定向背散射探測(cè)器(DBS)、STEM 3+ 和低真空氣體分析探測(cè)器 (GAD)。所有這些探測(cè)器都擁有的軟件控制分割功能，以便根據(jù)需求選擇最有價(jià)值的樣品信息。
 

每個(gè) Apreo 都按標(biāo)準(zhǔn)配備各種用以處理絕緣樣品的策略，包括：高真空技術(shù)，例如 SmartSCAN™、漂移補(bǔ)償幀積分(DCFI) 和電荷過(guò)濾。對(duì)于最有挑戰(zhàn)性的應(yīng)用，Apreo 可提供電荷緩解策略。其中包括可選的低真空(最高為 500 Pa)策略，通過(guò)經(jīng)現(xiàn)場(chǎng)驗(yàn)證的穿鏡式差分抽氣機(jī)構(gòu)和專(zhuān)用低真空探測(cè)器，不但可以緩解任何樣品上的電荷，還能提供的分辨率和較大的分析電流。
 

隨著分析技術(shù)的使用越來(lái)越常規(guī)化，Apreo 倉(cāng)室經(jīng)過(guò)全新設(shè)計(jì)，以便更好地支持不同的配件和實(shí)驗(yàn)。倉(cāng)室最多容納三個(gè) EDS/WDS 端口，可實(shí)現(xiàn)快速敏感的 X 射線測(cè)量、共面EDS/EBSD/TKD 排列并與(冷凍)CL、拉曼、EBIC 和其他技術(shù)兼容。