您好, 歡迎來到化工儀器網(wǎng)
會(huì)員.png)
7
激光直寫的基本工作流程
激光直寫是制作衍射光學(xué)元件的主要技術(shù)之一，它利用強(qiáng)度可變的激光束對(duì)基片表面的抗蝕材料實(shí)施變劑量曝光，顯影后便在抗蝕層表面形成要求的浮雕輪廓。
激光直寫制作衍射光學(xué)元件（DOE）是把計(jì)算機(jī)控制與微細(xì)加工技術(shù)相結(jié)合，為DOE設(shè)計(jì)和制作的方法提供了靈活性，制作精度可以達(dá)到亞微米量級(jí)。
激光直寫是利用強(qiáng)度可變的激光束對(duì)基片表面的抗蝕材料實(shí)施變劑量曝光，顯影后在抗蝕層表面形成所要求的浮雕輪廓。激光直寫系統(tǒng)的基本工作原理是由計(jì)算機(jī)控制高精度激光束掃描，在光刻膠上直接曝光寫出所設(shè)計(jì)的任意圖形，從而把設(shè)計(jì)圖形直接轉(zhuǎn)移到掩模上。激光直寫系統(tǒng)的基本結(jié)構(gòu)如圖《激光直寫系統(tǒng)基本結(jié)構(gòu)簡圖》所示，主要由He-Cd激光器、聲光調(diào)制器、投影光刻物鏡、CCD攝像機(jī)、顯示器、照明光源、工作臺(tái)、調(diào)焦裝置、He-Ne激光干涉儀和控制計(jì)算機(jī)等部分構(gòu)成。激光直寫的基本工作流程是：用計(jì)算機(jī)產(chǎn)生設(shè)計(jì)的微光學(xué)元件或待制作的VLSI掩摸結(jié)構(gòu)數(shù)據(jù)；將數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)換成直寫系統(tǒng)控制數(shù)據(jù)，由計(jì)算機(jī)控制高精度激光束在光刻膠上直接掃描曝光；經(jīng)顯影和刻蝕將設(shè)計(jì)圖形傳遞到基片上。
我們會(huì)經(jīng)常推送一些您感興趣的內(nèi)容，比如高精度3D打印、微納米激光直寫、激光直寫、科研設(shè)備、無掩膜光刻、高速微納加工等。更多關(guān)于激光直寫可以關(guān)注我們的網(wǎng)站，還有什么想要了解的內(nèi)容，可以給小編留言告訴小編哦，小編整理好內(nèi)容，下期新聞再跟大家見面！