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上海昊量光電設(shè)備有限公司

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首頁(yè)>>上海昊量光電設(shè)備有限公司>>視頻展示>>無掩模光刻>>microFAB-3D可實(shí)現(xiàn)復(fù)雜結(jié)構(gòu)的超高分辨率3D打印

產(chǎn)品分類
精密定位系統(tǒng)/平移臺(tái)

數(shù)據(jù)記錄

高精度壓電馬達(dá)夾爪

旋轉(zhuǎn)平臺(tái)

平移臺(tái)

載物臺(tái)

納米精度電動(dòng)升降臺(tái)

位移臺(tái)

探測(cè)器/光子計(jì)數(shù)器

大角度閉環(huán)微型振鏡

線性功率放大器

液晶空間光調(diào)制器

多模石英光纖

定制光纖束

超導(dǎo)單光子探測(cè)器

4D位置敏感探測(cè)器

激光脈沖選擇器

光束勻化方案匯總

光束偏轉(zhuǎn)解決方案匯總

強(qiáng)激光自適應(yīng)光學(xué)系統(tǒng)

液晶空間光調(diào)制器配套光學(xué)系統(tǒng)

超高速DMD數(shù)字微鏡陣列

高速閉環(huán)自適應(yīng)光學(xué)系統(tǒng)

微通道板(MCP)

聲光可調(diào)諧濾波器

超快鐵電液晶偏振旋轉(zhuǎn)器

光彈調(diào)制器

光學(xué)可調(diào)諧濾波器

高精度MTF測(cè)量?jī)x

雙折射顯微成像系統(tǒng)

在線色度檢測(cè)色度計(jì)

高功率光纖/光纜

快傾鏡/轉(zhuǎn)鏡/旋轉(zhuǎn)平臺(tái)
激光測(cè)量設(shè)備

電阻測(cè)試儀

隔震平臺(tái)

準(zhǔn)直儀

伺服控制器

脈沖測(cè)量?jī)x

波長(zhǎng)計(jì)

干涉儀

相位成像相機(jī)

功率計(jì)/能量計(jì)

飛秒激光器

自相關(guān)儀

激光器光束在線測(cè)量系統(tǒng)

磁疇觀察

光束分析儀

偏振態(tài)測(cè)量?jī)x

波前分析儀

紅外觀察儀

激光光束質(zhì)量分析儀

超短激光脈沖測(cè)量系統(tǒng)
光譜儀

拉曼成像系統(tǒng)

光譜儀傳感器

光譜色度一體機(jī)

高光譜顯微鏡

近紅外光譜儀

傅里葉光譜儀

近紅外光譜分析和化學(xué)計(jì)量學(xué)軟件

光譜成像分析系統(tǒng)

MRI射頻信號(hào)處理器

光電流成像系統(tǒng)

中紅外光譜儀

偏振相機(jī)

高光譜成像儀

紅外二維光譜儀

拉曼光譜儀

色度計(jì)
專用實(shí)驗(yàn)設(shè)備

熱導(dǎo)率測(cè)試儀

熒光壽命成像

數(shù)據(jù)采集系統(tǒng)

納米孔讀取器

3D超分辨率單分子定位顯微鏡模塊（無需掃描）

圓二色譜儀

核磁共振波譜儀

測(cè)試臺(tái)

波導(dǎo)

光電測(cè)試系統(tǒng)

斬波器

高分辨率光譜儀

高光譜成像系統(tǒng)

光泵磁力儀

波形發(fā)生器

光刻機(jī)

激光雷達(dá)

超聲源

輪廓儀

納米壓痕儀

陰極發(fā)光

異步光學(xué)采樣系統(tǒng)

脈沖選擇器

顯微鏡

檢漏儀

振蕩器

傳感器

水聽器

高速控制器

實(shí)驗(yàn)系統(tǒng)

磁光阱

中空回射器

超穩(wěn)腔

輻射計(jì)

顯微成像系統(tǒng)

星模擬器

人工智能機(jī)器視覺識(shí)別軟件

光纖耦合二極管

普克爾盒

糾纏光子源

測(cè)振儀

振動(dòng)分析儀

相位延遲器

電磁干擾測(cè)試儀

示波器

鈮酸鋰調(diào)制器

DLP光學(xué)投影模組

無序抓取解決方案

聲光移頻器

顯微鏡載物臺(tái)

光片掃描儀

單色儀

膨脹計(jì)

超短脈沖脈寬壓縮器

再生放大器專用調(diào)制及控制模塊

原子力顯微鏡

顯微鏡成像組件

磁力計(jì)

變形鏡

光頻梳

數(shù)字源表

分析儀

定位/掃描臺(tái)

濾波器

橢偏儀

自相關(guān)儀

射頻收發(fā)器

高頻激振器

電子多路復(fù)用器

頻率合成器

頻率計(jì)數(shù)器

位移測(cè)量?jī)x

光電探測(cè)器

信號(hào)發(fā)生器

X射線產(chǎn)品

高精度時(shí)間間隔與頻率計(jì)數(shù)器

CVD制備設(shè)備

二硫化鉬CVD制備設(shè)備

太赫茲偏振片

平衡探測(cè)器

太赫茲波片

高萊盒

太赫茲反射鏡

太赫茲透鏡

探針臺(tái)

電池測(cè)試設(shè)備

多電極陣列

飛秒脈沖重復(fù)頻率鎖定-光鎖相環(huán)

平衡光學(xué)互相關(guān)器TCBOC

時(shí)間分配和同步系統(tǒng)TDS

太赫茲探測(cè)器

單板控制器

色度計(jì)

單模光纖

太赫茲時(shí)域光譜儀

太赫茲系統(tǒng)

全息光鑷系統(tǒng)

活細(xì)胞定量?jī)x器

阻抗分析儀

多光譜固定翼無人機(jī)整體方案

無人機(jī)多光譜解決方案

農(nóng)業(yè)專業(yè)無人機(jī)解決方案

鈮酸鋰電光相位調(diào)制器

電光調(diào)制器

整形器

壓印機(jī)

空間光調(diào)制器

高頻振動(dòng)測(cè)試儀

低溫制冷/恒溫設(shè)備

鑒相器

磁學(xué)測(cè)量
激光器/光源

載波包絡(luò)偏頻鎖定模塊

光源

光源開發(fā)套件

激光系統(tǒng)

半導(dǎo)體激光器

一體化ECDL控制器/頻率鎖定

激光器

Q開關(guān)Nd:YAG激光器

晶體制冷機(jī)

單頻激光器

被動(dòng)毫米波探測(cè)器

X射線屏

光纖面板

X射線聚焦鏡

X射線探測(cè)器

飛秒頻率梳

多軸可調(diào)準(zhǔn)直光源

x射線源

光纖激光器

皮秒激光器

多波長(zhǎng)激光器

糾纏光子源、單光子源

中紅外/量子級(jí)聯(lián)激光器

垂直腔面發(fā)射激光器 VCSEL

超連續(xù)譜激光器

飛秒激光器

納秒/亞納秒脈沖激光器

單縱模激光器（CW）

可調(diào)諧激光器
光學(xué)部件

云母

LEAsys非接觸式超聲波無損檢測(cè)系統(tǒng)

光纖麥克風(fēng)

反射板

非球面鏡

衰減器

濾光片

顯微鏡框架

光纖光柵

光學(xué)延遲線

光隔離器

渦旋波片

光緒可調(diào)濾波器

光纖

光柵

光纖探頭

光譜測(cè)量系統(tǒng)

OCT系統(tǒng)

雙折射測(cè)量系統(tǒng)

變焦透鏡

多驅(qū)動(dòng)自適應(yīng)鏡頭

可變形反射鏡

光束整形器件

偏振器件

體布拉格光柵（VBG，VHG）

光學(xué)鏡頭

超高真空腔

微透鏡陣列/透鏡陣列

F-Theta透鏡與擴(kuò)束鏡
晶體

LBO晶體

CLBO晶體

閃爍晶體

周期極化晶體

鈮酸鋰/摻鎂鈮酸鋰晶體

TGG，TSAG，YIG

KTN 晶體

激光非線性晶體

周期極化鈮酸鋰（PPLN）
精密定位系統(tǒng)/平移臺(tái)/掃描

電動(dòng)平移臺(tái)

電動(dòng)升降臺(tái)

微型振鏡

自動(dòng)變焦模塊/物鏡掃描臺(tái)

壓電精密定位系統(tǒng)
光學(xué)/激光加工系統(tǒng)

應(yīng)力雙折射測(cè)量

飛秒激光器系統(tǒng)

光學(xué)平臺(tái)

無掩膜光刻系統(tǒng)
實(shí)驗(yàn)室電子產(chǎn)品

微型多通道電流放大器

膜厚測(cè)量?jī)x

強(qiáng)度調(diào)制器

單光子計(jì)數(shù)器

相位調(diào)制器

電光調(diào)制器

鎖相放大器
相機(jī)

太赫茲源

工業(yè)相機(jī)

PCI Express攝像頭

增強(qiáng)器

高光譜相機(jī)

雙攝相機(jī)

TOF相機(jī)

圖像采集卡

紫外相機(jī)

單光子相機(jī)

偏振相機(jī)

3D相機(jī)

大疆相機(jī)-高清相機(jī)/熱紅外相機(jī)/雙光相機(jī)

無人機(jī)

熱成像儀

科研相機(jī)

太赫茲相機(jī)

光場(chǎng)相機(jī)

CCD科研相機(jī)

紅外相機(jī)

高速熒光相機(jī)

CMOS相機(jī)

X射線相機(jī)

多光譜相機(jī)
空間光調(diào)制產(chǎn)品

飛秒脈沖壓縮器

純相位空間光調(diào)制器

DMD

microFAB-3D可實(shí)現(xiàn)復(fù)雜結(jié)構(gòu)的超高分辨率3D打印

發(fā)布時(shí)間：2022-12-13 播放次數(shù)651次

視頻簡(jiǎn)介

microFAB-3D雙光子聚合3D納米光刻機(jī)基于雙光子聚合(TPP)激光直寫技術(shù)，幫助您在無需掩模的情況下實(shí)現(xiàn)以亞微米的分辨率生產(chǎn)出空出未有復(fù)雜的三維結(jié)構(gòu)，microFAB-3D的最小特征尺寸低至0.2um，在部分材料中可達(dá)67nm, 為微流體、微光學(xué)、細(xì)胞培養(yǎng)、微機(jī)器人或元材料領(lǐng)域開辟了新的前景。MicroFAB-3D具有開放性和適應(yīng)性，可以滿足您的定制化需求。

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