目前Bio-Logic推出的SECM探針直徑有25、15、10、5、2、1µm，甚至還將推出500nm直徑的超高分辨率的探針。在SECM實(shí)驗(yàn)開始前，要對(duì)探針進(jìn)行清洗。SECM探針的清洗方法有很多，本文主要介紹三種常用的方法。另外，由于探針不同，參數(shù)的設(shè)置也有差別，以下僅供參考。

圖1 SECM探針

1.快速循環(huán)伏安法

       設(shè)置足夠的陰極電位區(qū)間，在1M H₂SO₄溶液中做一個(gè)快速的循環(huán)伏安曲線，使金屬表面循環(huán)吸氫放氫。同樣地，如果電位區(qū)間是足夠的陽(yáng)極電位區(qū)間，鉑表面會(huì)形成氧化層，然后在還原過(guò)程中會(huì)被清除。電位快速掃描將幫助清潔鉑表面。典型的電位范圍是-0.65V_SCE~0.85V_SCE，速率為1V/s (建議循環(huán)100次)。

2. 超聲法

       準(zhǔn)備聲能能通過(guò)的清洗液。例如，用戶可以用酒精溶液幫助清除之前的產(chǎn)物，或者用蒸餾水。在超聲池中倒少量溶液，沒(méi)過(guò)探針。超聲一會(huì)兒即可（10分鐘應(yīng)該足夠）。

3. 拋光法

zui積極有效的方法是通過(guò)拋光清除鉑和絕緣材料的一個(gè)薄層。由于探針?lè)N類很多，而且拋光方法也很多，以下介紹的方法主要用于精致、結(jié)實(shí)的探針。通常，細(xì)的電極在起絨織物上拋光，用去離子水做潤(rùn)滑劑，用Al₂O₃顆粒做研磨膏。一個(gè)10μm探針，zui開始用1μm顆粒，逐漸減小，用0.05μm顆粒做zui后的打磨。探針要輕輕放在布上，小范圍內(nèi)畫8字，要保持探針軸線與拋光面垂直。此過(guò)程中要小心拋光布刮住，造成破壞。另一個(gè)選擇是浸濕一張細(xì)拋光砂紙，做如上步驟。這沒(méi)有前面拋光的細(xì)，但是速度快。砂紙選用2400號(hào)。為了電極或者樣品耐用，可以選用更低倍數(shù)的砂紙。當(dāng)某級(jí)別的砂紙上磨好后，換更細(xì)的下一級(jí)砂紙，直到用Al₂O₃顆粒在拋光布上拋光。

如果用戶要用三種技術(shù)來(lái)清洗，順序?yàn)?-2-1，每一步之間用去離子水清洗探針。