1、 物理干擾：配制與被測(cè)試樣相似組成的標(biāo)準(zhǔn)樣品，是消除物理干擾較常用的方法。在不知道試樣組成或無(wú)法匹配試樣時(shí)，可采用標(biāo)準(zhǔn)加入法或稀釋法來(lái)減小和消除物理干擾。
2、 化學(xué)干擾：化學(xué)干擾是由于液相或氣相中被測(cè)元素的原子與干擾物質(zhì)組分之間形成熱力學(xué)更穩(wěn)定的化合物，從而影響被測(cè)元素化合物的解離及其原子化。磷酸根對(duì)鈣的干擾，硅、鈦形成難解離的氧化物、鎢、硼、希土元素等生成難解離的碳化物，從而使有關(guān)元素不能有效原子化，都是化學(xué)干擾的例子?；瘜W(xué)干擾是一種選擇性干擾。
3、 電離干擾：在高溫下原子電離，使基態(tài)原子的濃度減少，引起原子吸收信號(hào)降低，此種干擾稱(chēng)為電離干擾。電離效應(yīng)隨溫度升高、電離平衡常數(shù)增大而增大，隨被測(cè)元素濃度增高而減小。 加入更易電離的堿金屬元素，可以有效地消除電離干擾。
4、 光譜干擾：包括譜線(xiàn)重疊、光譜通帶內(nèi)存在非吸收線(xiàn)、原子化池內(nèi)的直流發(fā)射、分子吸收、光散射等。當(dāng)采用銳線(xiàn)光源和交流調(diào)制技術(shù)時(shí)，前三種因素一般可以不予考慮，主要考慮分子吸收和光散射的影響，它們是形成光譜背景的主要因素。
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