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OTF-1200X-RTP-II-5是一款快速熱處理爐，其爐腔體是一直徑為11英寸的石英管。此款設備專門實際針對于熱蒸發(fā)或CSS（Close Spaced Sublimation）鍍膜實驗，其鍍膜面積可達到5“x5“。此款高溫爐的加熱元件是兩組紅外燈管（分別位于頂部和底部），Z大升溫速率為20ºC/s 。采用PID方式進行溫度調節(jié)，可設置30段升降溫程序。儀器面板上安裝有RS485接口，可配用控制

詳細介紹

OTF-1200X-RTP-II-5是一款快速熱處理爐，其爐腔體是一直徑為11英寸的石英管。此款設備專門實際針對于熱蒸發(fā)或CSS（Close Spaced Sublimation）鍍膜實驗，其鍍膜面積可達到5"x5"。此款高溫爐的加熱元件是兩組紅外燈管（分別位于頂部和底部），zui大升溫速率為20ºC/s 。采用PID方式進行溫度調節(jié)，可設置30段升降溫程序。儀器面板上安裝有RS485接口，可配用控制軟件將升溫程序和溫度曲線都導入到電腦中。對于探索新一代的薄膜太陽能電池，如CdTe、硫化物和鈣鈦礦結構太陽能電池,這是一款理想的實驗工具.

技術參數(shù)

爐體結構和真空腔體	采用兩個溫度控制器，分別控制頂部和底部兩組加熱元件。安裝有浮子流量計，可向真空腔體中通入氣體真空腔體為一高純的石英管，其尺寸為：11" OD/10.8" ID x 9" Hmm
真空法蘭 (點擊圖片查看詳細資料）	真空法蘭為316不銹鋼制作頂部法蘭上有一KF25接口，可以與真空泵相連接，另外安裝有兩個1/4" 軟管接頭的出氣口底部法蘭上有一KF25接口，可以與真空泵相連接，另外安裝有兩個1/4" 軟管接頭的進氣口法蘭是通過兩個硅膠O型圈進行密封，通過機械泵其腔體內真空度可達10^-2 torr，用分子泵其真空度可達到10^-4torr
加熱元件和載樣臺	由兩組紅外燈管作為加熱元件，分別位于頂部和底部兩個加熱臺之間的距離可以通過直流電機調節(jié)，調節(jié)范圍為：2-50mm 為了減少熱量輻射和達到較快的冷卻速率，加熱元件安裝在帶有水冷夾層的不銹鋼殼體中，（不銹鋼殼體采用316不銹鋼制作）采用導熱率較高的氮化鋁陶瓷片（5"×5"×0.5mm厚度）作為載樣臺，以達到較好的加熱均勻性底部載樣臺上可放入5"x5"的石墨坩堝來盛放蒸發(fā)原料此款儀器使用時需要配用一循環(huán)水冷機（16L/m)
溫控系統(tǒng)	兩個精密的溫控系統(tǒng)分別獨立控制上下兩個加熱區(qū)，可設置30段升降溫程序每個溫控系統(tǒng)都帶有超溫和斷偶保護 PC通訊接口，軟件可安裝，可將控溫程序和溫度曲線導入到電腦中控溫儀表操作視頻
工作溫度	zui高工作溫度為：800℃ 兩個加熱區(qū)之間的zui大溫差為300℃
加熱和冷卻速率	加熱速率> 8ºC/s（每個溫區(qū)單獨加熱）冷卻速率> 10ºC/s (600 - 100ºC)
熱電偶	兩個K型熱電偶，安裝在頂部和底部，都與氮化鋁陶瓷片相接觸
工作電壓	208 - 240VAC，單相，（需要20A的空氣開關）
功率	3000W
可選	實驗時需要一個真空泵，可與本公司選購真空泵腔體內的真空度達到< = 10E-2 torr 若要使真空腔體內達到更潔凈的工作環(huán)境，可換購無油泵也可選購質子流量計混氣系統(tǒng)，將實驗所需氣體安比列混好后導入到真空腔體中
質保	一年質保期，終生維護（不包括密封圈、加熱元件和石英管）