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貨物所在地：上海上海市
更新時(shí)間：2025-03-27 21:00:08
有效期：2025年3月27日 -- 2025年9月27日
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特征：
半導(dǎo)體用Photomask Blanks的出廠檢查、工藝評價(jià)
用微分干涉顯微鏡分析缺陷
檢查對象：Photomask Substrate、Cr、Resist、MoSi
檢查項(xiàng)目：顆粒、內(nèi)部缺陷（Option）
檢查靈敏度：PDM缺陷尺寸0.1μm（AI00）
定期支持裝置安裝完成后的性能維持。
24小時(shí)電話對應(yīng)，全年無休的安心支持。
認(rèn)真對待客戶新的要求。
召開技術(shù)研討會和充實(shí)各種手冊，讓顧客能夠自行維護(hù)和更換零件。
提供HDD、激光光源等消耗品的免費(fèi)診斷服務(wù)。
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