HWN-L1新型納米激光直寫系統(tǒng)
- 公司名稱 蘇州華維納納米科技有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時間 2025/4/17 15:57:21
- 訪問次數(shù) 17108
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公司簡介:
蘇州華維納納米科技有限公司是在"蘇州工業(yè)園區(qū)創(chuàng)業(yè)人才項目"的支持下，于2011年注冊成立的高科技創(chuàng)新型公司，公司由歸國和國內(nèi)的高層次人才組成，公司設有博士后流動站。公司曾先后獲得國家科技部（國家重大大科學儀器設備開發(fā)專項)和姑蘇、江蘇省雙創(chuàng)人才、以及蘇州x-nano大科學裝置等項目支持，并于2012年6月 完成首輪風險融資，并成功研發(fā)出擁有自主知識產(chǎn)權的三大系列新型納米激光光刻系統(tǒng)，2015年被認定為高新技術企業(yè)。
公司近年來，不斷加大研發(fā)力度，已經(jīng)定型了LDW-P 和LDW-L兩大系列新型激光直寫設備，實現(xiàn)了激光直寫設備的更新?lián)Q代。該新型激光直寫采用全新的技術路徑提高加工分辨率，一舉突破突衍射極限的限制，成功實現(xiàn)納米尺度加工；突破了目前激光直寫僅能用于有機光刻膠的現(xiàn)狀，可以廣泛應用于各種受體材料，極大地擴展了激光直寫設備的應用范圍。
無掩模納米光刻系統(tǒng)，激光直寫設備
| 應用領域 | 化工 | 激光波長 | 405nm |
|---|---|---|---|
| 特征尺寸 | 100nm | 激光功率 | 120mW至300mW（可選） |
| 芯片尺寸 | 1英寸 | 刻寫范圍 | 50mm×50mm?至?100mm×100?mm（可選） |
HWN-L1新型納米激光直寫系統(tǒng)是一款大面積、高精度、可套刻、超衍射極限加工的激光直寫系統(tǒng)，可用于晶圓尺寸的大面積微納加工，適用于各種微納結(jié)構(gòu)和器件制造、小批量微納器件生產(chǎn)等。該系列包括L50、L100等不同型號，具有功能強大、維護簡單、加工分辨率高、支持多種刻寫模式、支持多種受體材料等特征。另外，HWN-L1新型納米激光直寫系統(tǒng)在設計之初保留了充足的物理空間和硬件資源，以滿足后續(xù)功能升級換代的需求，使產(chǎn)品具有更長的生命周期。
蘇州華維納納米科技有限公司于2011年注冊成立的高科技創(chuàng)新型公司，主要從事新型納米光刻技術和無掩模納米光刻機的研發(fā)和產(chǎn)業(yè)化工作。
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